亚像素级硬阴影反走样技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-11页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9-10页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第10-11页 |
| 1.3 论文结构安排 | 第11-12页 |
| 第二章 阴影绘制技术 | 第12-19页 |
| 2.1 阴影的基本概念 | 第12-13页 |
| 2.2 可编程图形硬件 | 第13-15页 |
| 2.2.1 传统图形处理器渲染管线 | 第13-14页 |
| 2.2.2 可编程图形处理器渲染管线 | 第14-15页 |
| 2.2.3 着色语言 | 第15页 |
| 2.3 光照模型 | 第15-18页 |
| 2.3.1 Lambert光照模型 | 第16页 |
| 2.3.2 Phong光照模型 | 第16-17页 |
| 2.3.3 透明光照模型 | 第17-18页 |
| 2.3.4 局部光照模型 | 第18页 |
| 2.4 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 阴影反走样技术分析 | 第19-28页 |
| 3.1 走样原因分析 | 第19-20页 |
| 3.2 相关的阴影反走样算法 | 第20-27页 |
| 3.2.1 自适应深度偏差算法 | 第20-22页 |
| 3.2.2 方差阴影图算法 | 第22-23页 |
| 3.2.3 卷积阴影图算法 | 第23-25页 |
| 3.2.4 几何阴影图算法 | 第25-27页 |
| 3.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 第四章 基于深度外插的亚像素阴影图算法 | 第28-41页 |
| 4.1 DESM算法概述 | 第28-29页 |
| 4.2 保守光栅 | 第29-30页 |
| 4.3 三角形信息存储 | 第30-31页 |
| 4.4 深度求导公式的优化 | 第31-32页 |
| 4.5 亚像素几何阴影图 | 第32-35页 |
| 4.5.1 像素点分类 | 第32页 |
| 4.5.2 切线估计 | 第32-34页 |
| 4.5.3 三角形深度一致性检测 | 第34-35页 |
| 4.6 实验与结论 | 第35-40页 |
| 4.7 本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 基于反走样滤波的亚像素阴影图算法 | 第41-50页 |
| 5.1 AFSM算法概述 | 第41页 |
| 5.2 G缓存生成过程 | 第41-43页 |
| 5.3 反走样滤波 | 第43-44页 |
| 5.4 形态估计 | 第44页 |
| 5.5 实验与结论 | 第44-49页 |
| 5.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第六章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 6.1 全文总结 | 第50-51页 |
| 6.2 未来工作的展望 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 附录 | 第55页 |
