| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 YBCO和LBCO的概述 | 第9-16页 |
| 1.1 YBCO的结构 | 第9-11页 |
| 1.2 YBCO薄膜应用 | 第11-14页 |
| 1.2.1 带材 | 第12页 |
| 1.2.2 半导体器件 | 第12-14页 |
| 1.2.3 微波器件 | 第14页 |
| 1.3 LBCO的概述 | 第14-16页 |
| 2 YBCO薄膜的制备技术 | 第16-21页 |
| 2.1 三步法与两步法 | 第16页 |
| 2.2 磁控溅射法 | 第16-19页 |
| 2.2.1 磁控溅射腔体结构设备 | 第17-19页 |
| 2.2.2 磁控溅射制备YBCO薄膜工作气压 | 第19页 |
| 2.3 其他方法 | 第19-21页 |
| 3 YBCO薄膜制备及表征方法 | 第21-27页 |
| 3.1 靶材制备 | 第21-22页 |
| 3.2 基片参数 | 第22页 |
| 3.3 YBCO薄膜的制备方法 | 第22-25页 |
| 3.3.1 射频磁控溅射的基本原理 | 第23-24页 |
| 3.3.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 3.4 YBCO薄膜的分析 | 第25-27页 |
| 3.4.1 X射线衍射仪 | 第25-26页 |
| 3.4.2 原子力显微镜 | 第26-27页 |
| 4 溅射功率与气压对YBCO薄膜生长的影响 | 第27-34页 |
| 4.1 YBCO薄膜样品制备 | 第27页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第27-32页 |
| 4.2.1 溅射功率与气压对YBCO薄膜结构的影响 | 第27-31页 |
| 4.2.2 溅射功率与气压对YBCO薄膜形貌的影响 | 第31-32页 |
| 4.2.3 其他因素影响 | 第32页 |
| 4.3 本章小结 | 第32-34页 |
| 5 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜生长的影响 | 第34-41页 |
| 5.1 YBCO薄膜样品制备 | 第34页 |
| 5.2 结果与讨论 | 第34-40页 |
| 5.2.1 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜结构的影响 | 第35-38页 |
| 5.2.2 引入LBCO缓冲层对YBCO薄膜形貌的影响 | 第38-40页 |
| 5.3 本章小结 | 第40-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第44-45页 |
| 致谢 | 第45-46页 |
