| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 二氧化钒(VO_2)简介 | 第9-11页 |
| 1.2 纳米材料的特性及其应用 | 第11页 |
| 1.3 LSPR生物传感器简介 | 第11-13页 |
| 1.4 VO_2纳米颗粒阵列的应用领域及研究现状 | 第13-14页 |
| 1.5 Au/VO_2复合结构纳米颗粒阵列的应用领域及研究现状 | 第14-15页 |
| 1.6 本课题研究内容与意义 | 第15-16页 |
| 第2章 基本制备方法及分析方法 | 第16-30页 |
| 2.1 VO_2薄膜的制备工艺介绍 | 第16-20页 |
| 2.1.1 溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| 2.1.2 真空蒸发法 | 第17-18页 |
| 2.1.3 溅射镀膜法 | 第18-20页 |
| 2.2 单层SiO_2纳米球掩膜层的制备工艺介绍 | 第20-22页 |
| 2.2.1 溶剂蒸发法 | 第21页 |
| 2.2.2 超声振荡提拉法 | 第21-22页 |
| 2.2.3 引流分散提拉法 | 第22页 |
| 2.3 金纳米材料的制备工艺介绍 | 第22-25页 |
| 2.3.1 柠檬酸钠化学还原法 | 第22-23页 |
| 2.3.2 晶种生长法 | 第23页 |
| 2.3.3 模板法 | 第23-24页 |
| 2.3.4 电子束蒸发法 | 第24-25页 |
| 2.4 离子束刻蚀法 | 第25页 |
| 2.5 分析手段和测试方法 | 第25-30页 |
| 2.5.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第25-26页 |
| 2.5.2 原子力显微镜（AFM） | 第26-27页 |
| 2.5.3 X射线衍射(XRD) | 第27-28页 |
| 2.5.4 近红外变温光谱 | 第28-30页 |
| 第3章 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的制备及其性能研究 | 第30-42页 |
| 3.1 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的制备 | 第30-33页 |
| 3.1.1 Al_2O_3基底的清洗 | 第30-31页 |
| 3.1.2 制备单层SiO_2纳米球 | 第31-32页 |
| 3.1.3 磁控溅射制备VO_x/SiO_2纳米颗粒阵列 | 第32-33页 |
| 3.1.4 快速热处理形成VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列 | 第33页 |
| 3.2 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的性能研究 | 第33-39页 |
| 3.2.1 提拉速度对VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 退火时间对VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.3 氧气流量对VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的影响 | 第35-38页 |
| 3.2.4 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列的最佳制备条件参数 | 第38-39页 |
| 3.3 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列和VO_2薄膜的微观表征与特性分析对比 | 第39-40页 |
| 3.3.1 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列和VO_2薄膜的SEM表征 | 第39-40页 |
| 3.3.2 VO_2/SiO_2阵列和VO_2薄膜的可见-近红外变温光谱表征 | 第40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 Au/VO_2复合结构纳米颗粒阵列的制备及其性能研究 | 第42-54页 |
| 4.1 VO_2/SiO_2纳米颗粒阵列和Au/VO_2纳米颗粒阵列的联系与区别 | 第42-43页 |
| 4.2 Au/VO_2复合结构纳米颗粒阵列的制备 | 第43-46页 |
| 4.2.1 磁控溅射的方法沉积金属V薄膜 | 第43-44页 |
| 4.2.2 提拉镀膜的方法制备单层SiO_2掩膜层 | 第44页 |
| 4.2.3 离子束刻蚀除去掩膜层缝隙处薄膜 | 第44-45页 |
| 4.2.4 电子束蒸发的方法沉积Au薄膜 | 第45页 |
| 4.2.5 超声振荡除去SiO_2掩膜层 | 第45页 |
| 4.2.6 快速热处理形成Au/VO_2复合结构纳米颗粒阵列 | 第45-46页 |
| 4.3 Au/VO_2复合结构纳米颗粒阵列的性能研究 | 第46-52页 |
| 4.3.1 金属V薄膜厚度对Au/VO_2纳米颗粒阵列的性能影响 | 第46-49页 |
| 4.3.2 退火时间对Au/VO_2纳米颗粒阵列的性能影响 | 第49-51页 |
| 4.3.3 Au/VO_2纳米颗粒阵列的最佳制备参数及微观形貌表征 | 第51-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 总结与展望 | 第54-57页 |
| 5.1 总结 | 第54-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
