| 摘要 | 第11-12页 |
| Abstract | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第14-28页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 DLC薄膜的微观结构与制备机理概述 | 第15-18页 |
| 1.2.1 DLC薄膜的微观结构 | 第15-16页 |
| 1.2.2 DLC薄膜的制备机理 | 第16-18页 |
| 1.3 DLC薄膜的性能 | 第18-20页 |
| 1.3.1 DLC薄膜的机械性能 | 第18-20页 |
| 1.3.2 DLC薄膜的电学性能 | 第20页 |
| 1.3.3 DLC薄膜的光学性能 | 第20页 |
| 1.4 DLC薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| 1.4.1 离子束沉积 | 第21页 |
| 1.4.2 磁控溅射 | 第21页 |
| 1.4.3 真空阴极电弧沉积 | 第21-22页 |
| 1.4.4 脉冲激光沉积 | 第22页 |
| 1.4.5 等离子体增强化学气相沉积 | 第22-23页 |
| 1.5 DLC薄膜应用的局限性以及薄膜的掺杂改性 | 第23-26页 |
| 1.5.1 DLC薄膜应用的局限性 | 第23页 |
| 1.5.2 DLC薄膜的掺杂改性 | 第23-26页 |
| 1.6 研究的目的和意义 | 第26-28页 |
| 第2章 类金刚石碳薄膜材料的制备和表征技术 | 第28-36页 |
| 2.1 DLC薄膜的制备技术 | 第28-31页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术原理 | 第28-29页 |
| 2.1.2 高功率脉冲磁控溅射技术定义及优点 | 第29-30页 |
| 2.1.3 高功率脉冲磁控溅射技术原理 | 第30-31页 |
| 2.2 DLC薄膜的制备 | 第31-33页 |
| 2.3 DLC薄膜的表征 | 第33-36页 |
| 2.3.1 拉曼光谱 | 第33-34页 |
| 2.3.2 纳米压痕 | 第34页 |
| 2.3.3 热场发射扫描电镜(SEM) | 第34-35页 |
| 2.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第35-36页 |
| 第3章 DLC薄膜制备工艺参数的探索 | 第36-46页 |
| 3.1 直流磁控溅射制备DLC薄膜 | 第36-40页 |
| 3.1.1 直流磁控溅射工艺参数 | 第36页 |
| 3.1.2 薄膜微观形貌分析 | 第36-38页 |
| 3.1.3 薄膜Raman光谱分析 | 第38-39页 |
| 3.1.4 薄膜纳米硬度 | 第39-40页 |
| 3.2 高功率脉冲磁控溅射技术放电特性 | 第40-41页 |
| 3.3 DC+HiPIMS耦合方式制备DLC薄膜的工艺研究 | 第41-44页 |
| 3.3.1 薄膜微观形貌分析 | 第42-43页 |
| 3.3.2 薄膜Raman光谱分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 薄膜纳米硬度 | 第44页 |
| 3.4 低溅射气压下HiPIMS制备DLC艺的研究 | 第44-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 DLC薄膜及氮掺杂的DLC薄膜的HiPIMS制备与表征 | 第46-58页 |
| 4.1 单独采用HiPIMS模块制备DLC薄膜 | 第46-50页 |
| 4.1.1 HiPIMS工艺参数 | 第46页 |
| 4.1.2 薄膜微观形貌分析 | 第46-48页 |
| 4.1.3 薄膜Raman光谱分析 | 第48-49页 |
| 4.1.4 薄膜纳米硬度 | 第49-50页 |
| 4.2 氮掺杂的类金刚石碳(DLC:N)的HiPIMS制备与表征 | 第50-56页 |
| 4.2.1 DLC:N薄膜的制备工艺参数 | 第50-51页 |
| 4.2.2 薄膜微观形貌分析 | 第51-52页 |
| 4.2.3 薄膜Raman光谱分析 | 第52-53页 |
| 4.2.4 薄膜纳米硬度 | 第53-54页 |
| 4.2.5 制备温度对DLC:N薄膜的影响 | 第54-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 结论及展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58-59页 |
| 5.2 创新点 | 第59页 |
| 5.3 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附件 | 第67页 |
