摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第9-15页 |
1.1 研究背景 | 第9-11页 |
1.1.1 印染废水的危害 | 第9-10页 |
1.1.2 传统印染污水处理技术 | 第10页 |
1.1.3 传统印染污水处理缺陷 | 第10-11页 |
1.1.4 新型光催化印染污水处理技术 | 第11页 |
1.2 国内外研究现状 | 第11-13页 |
1.2.1 TiO_2光催化剂研究现状 | 第11-13页 |
1.2.2 MoS_2光催化剂研究现状 | 第13页 |
1.3 研究目的及意义 | 第13-14页 |
1.4 本论文主要研究内容 | 第14-15页 |
第2章 光催化剂第一性原理计算与光催化原理 | 第15-30页 |
2.1 密度泛函理论 | 第15-17页 |
2.1.1 Thomas-Fermi-Dirac理论 | 第15-16页 |
2.1.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第16页 |
2.1.3 Kohn-Shom方程 | 第16页 |
2.1.4 交换关联泛函数 | 第16-17页 |
2.2 CASTEP Tool | 第17页 |
2.3 TiO_2、MoS_2和TiO_2/MoS_2晶胞模型建立与第一性原理计算 | 第17-27页 |
2.3.1 金红石TiO_2晶胞模型建立与第一性原理计算 | 第17-19页 |
2.3.2 锐钛矿TiO_2晶胞模型建立与第一性原理计算 | 第19-22页 |
2.3.3 单层MoS_2模型建立与第一性原理计算 | 第22-24页 |
2.3.4 TiO_2/MoS_2复合结构 | 第24-26页 |
2.3.5 光催化剂第一性原理计算总结 | 第26-27页 |
2.4 纳米材料吸附原理 | 第27页 |
2.5 纳米材料光催化原理 | 第27-30页 |
2.5.1 TiO_2光催化剂电子转移过程 | 第28-29页 |
2.5.2 MoS_2光催化剂电子转移过程 | 第29页 |
2.5.3 TiO_2/MoS_2复合光催化剂电子转移过程 | 第29-30页 |
第3章 光催化剂制备与表征 | 第30-41页 |
3.1 实验材料 | 第30页 |
3.2 实验仪器 | 第30-31页 |
3.3 纳米光催化剂制备过程 | 第31-32页 |
3.3.1 二氧化钛纳米带制备过程 | 第31页 |
3.3.2 木耳状纳米二硫化钼的制备 | 第31页 |
3.3.3 棒状纳米二硫化钼的制备 | 第31页 |
3.3.4 纳米二硫化钼生长在表面粗糙的二氧化钛纳米带 | 第31-32页 |
3.4 表征仪器 | 第32页 |
3.4.1 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第32页 |
3.4.2 X射线衍射仪(XRD) | 第32页 |
3.4.3 紫外-可见分光光度计 | 第32页 |
3.5 光催化剂表征分析 | 第32-39页 |
3.5.1 二氧化钛p25 | 第32-34页 |
3.5.2 木耳状二硫化钼 | 第34-35页 |
3.5.3 棒状二硫化钼 | 第35-37页 |
3.5.4 二氧化钛/二硫化钼复合物 | 第37-39页 |
3.6 紫外可见吸收光谱 | 第39-41页 |
第4章 光催化剂吸附与降解实验 | 第41-51页 |
4.1 有机物吸附和光催化降解速率计算方法 | 第41-45页 |
4.1.1 罗丹明B溶液的制备与标准曲线的建立 | 第41-42页 |
4.1.2 亚甲基蓝溶液的制备与标准曲线的建立 | 第42-43页 |
4.1.3 甲基橙溶液的制备与标准曲线的建立 | 第43-44页 |
4.1.4 稀溶液降解速率计算 | 第44-45页 |
4.2 吸附与降解实验 | 第45-46页 |
4.2.1 纳米光催化剂吸附有机染料实验 | 第45页 |
4.2.2 纳米光催化剂降解有机染料实验 | 第45-46页 |
4.3 实验结果 | 第46-49页 |
4.3.1 光催化剂吸附降解罗丹明B | 第46-47页 |
4.3.2 光催化剂吸附降解亚甲基蓝 | 第47-48页 |
4.3.3 光催化剂吸附降解甲基橙 | 第48-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-51页 |
第5章 结论 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-57页 |
在读期间发表的学术论文及参与项目 | 第57-58页 |
致谢 | 第58页 |