| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 真空电子器件概述 | 第11-12页 |
| 1.3 真空电子器件对阴极性能的要求 | 第12-13页 |
| 1.4 阴极发展现状 | 第13-19页 |
| 1.4.1 氧化物阴极 | 第14-15页 |
| 1.4.2 纯金属阴极及原子薄膜阴极 | 第15-16页 |
| 1.4.3 扩散式阴极 | 第16-18页 |
| 1.4.4 含钪扩散阴极发射机理的研究现状 | 第18-19页 |
| 1.5 论文的研究思路和内容 | 第19-22页 |
| 1.5.1 研究内容 | 第19-20页 |
| 1.5.2 实验方案设计 | 第20-22页 |
| 第2章 实用含钪扩散阴极用氧化钪掺杂钨粉粒径研究 | 第22-38页 |
| 2.1 氧化钪掺杂亚微米钨粉制作阴极的问题与改进 | 第22-23页 |
| 2.2 微米尺度氧化钪掺杂钨粉的获得与结构成分表征 | 第23-29页 |
| 2.2.1 粉末成分设计 | 第23-24页 |
| 2.2.2 微米级Sc_2O_3掺杂W粉制备工艺 | 第24-27页 |
| 2.2.3 微米级Sc_2O_3掺杂W粉结构表征 | 第27-29页 |
| 2.3 微米尺度氧化钪掺杂钨粉制作阴极的性能 | 第29-37页 |
| 2.3.1 微米尺度氧化钪掺杂钨粉阴极的制备 | 第29-31页 |
| 2.3.2 机械加工性能的改进 | 第31页 |
| 2.3.3 阴极的发射性能 | 第31-35页 |
| 2.3.4 不同粒度阴极的表面结构及成分分析 | 第35-37页 |
| 2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 微米尺度氧化钪掺杂钨粉制备阴极的表面加工性能研究 | 第38-50页 |
| 3.1 阴极的机械加工及二次处理 | 第38-39页 |
| 3.2 表面加工后的氧化钪掺杂钨基扩散阴极发射性能 | 第39-46页 |
| 3.2.1 阴极的脉冲发射性能 | 第39-42页 |
| 3.2.2 阴极的直流发射性能 | 第42-44页 |
| 3.2.3 表面车制阴极的欠热特性 | 第44-46页 |
| 3.3 表面加工后的氧化钪掺杂钨基扩散阴极寿命实验 | 第46-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 含钪扩散阴极的可靠性研究 | 第50-62页 |
| 4.1 含钪扩散阴极的抗气体中毒性能研究 | 第50-56页 |
| 4.1.1 阴极在氧气气氛下的研究 | 第51-53页 |
| 4.1.2 阴极在空气气氛下的研究 | 第53-55页 |
| 4.1.3 阴极在氮气气氛下的研究 | 第55-56页 |
| 4.2 含钪扩散阴极的抗暴露大气性能研究 | 第56-59页 |
| 4.2.1 含钪扩散阴极的抗暴露大气候的发射性能 | 第56-57页 |
| 4.2.2 含钪扩散阴极的抗暴露大气后的表面特性 | 第57-59页 |
| 4.3 含钪扩散阴极的抗离子轰击性能研究 | 第59-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士期间所发表的学术论文 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
