微弧氧化技术实验设备的研制及其反应机理研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 引言 | 第7-16页 |
| 1.1 研究背景 | 第7-10页 |
| 1.2 微弧氧化技术简介 | 第10-14页 |
| 1.2.1 国内外研究现状 | 第11页 |
| 1.2.2 与同类表面处理工艺的比较 | 第11-13页 |
| 1.2.3 微弧氧化技术应用中的一些问题 | 第13-14页 |
| 1.3 论文选题意义和内容安排 | 第14-16页 |
| 1.3.1 研究内容和目的 | 第14页 |
| 1.3.2 论文结构安排 | 第14-16页 |
| 第2章 微弧氧化机理研究 | 第16-30页 |
| 2.1 微弧氧化过程的四个阶段 | 第16-23页 |
| 2.1.1 阳极氧化阶段 | 第16-18页 |
| 2.1.2 电击穿起弧阶段 | 第18-21页 |
| 2.1.3 膜层增厚阶段 | 第21-23页 |
| 2.1.4 断电冷却阶段 | 第23页 |
| 2.2 溶液成分的作用机理 | 第23-27页 |
| 2.3 电源模式的作用机理 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 微弧氧化设备的研制及实验预处理 | 第30-45页 |
| 3.1 微弧氧化电源的设计 | 第30-38页 |
| 3.1.1 直流电源的设计 | 第31-35页 |
| 3.1.2 控制台的设计 | 第35-38页 |
| 3.2 电解水槽的设计 | 第38-39页 |
| 3.3 电解液的设计 | 第39页 |
| 3.4 LY12铝合金各元素成分分析 | 第39-42页 |
| 3.5 微弧氧化工件预处理 | 第42-43页 |
| 3.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 微弧氧化实验及结果分析 | 第45-57页 |
| 4.1 击穿电压值的确定 | 第45-47页 |
| 4.2 正向电压幅值对微弧氧化膜层的影响 | 第47-50页 |
| 4.3 正向电压占空比对微弧氧化膜层的影响 | 第50-51页 |
| 4.4 电源频率对微弧氧化膜层的影响 | 第51-54页 |
| 4.5 反向电压对微弧氧化膜层的影响 | 第54-55页 |
| 4.6 改变电参数的加工工艺 | 第55-56页 |
| 4.7 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 总结与建议 | 第57-59页 |
| 5.1 研究内容总结 | 第57页 |
| 5.2 本文主要的创新点 | 第57-58页 |
| 5.3 论文的不足及下一步研究方向 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第64页 |
