| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-38页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 研究背景 | 第13-26页 |
| 1.2.1 第一代晶硅、多晶硅太阳能电池的结构 | 第14-15页 |
| 1.2.2 第二代太阳能电池 | 第15-18页 |
| 1.2.3 第三代太阳能电池 | 第18-26页 |
| 1.3 透明金属纳米结构电极的主要研究进展 | 第26-28页 |
| 1.4 存在的问题 | 第28页 |
| 1.5 论文研究的目的、思路及主要内容 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-38页 |
| 第二章 时域有限差分法和电子束曝光设备及工艺流程 | 第38-64页 |
| 2.1 前言 | 第38-39页 |
| 2.2 时域有限差分法（Finite-Difference Time-Domain, FDTD） | 第39-47页 |
| 2.2.1 Yee氏网格 | 第39-40页 |
| 2.2.2 麦克斯韦(Maxwell)方程组及其有限差分式 | 第40-41页 |
| 2.2.3 空间步长和时间步长 | 第41页 |
| 2.2.4 介电常数和材料模型 | 第41-42页 |
| 2.2.5 束缚电子的洛伦兹模型 (Lorenz Model) | 第42-44页 |
| 2.2.6 自由电子德鲁德模型 (Drude Model) | 第44页 |
| 2.2.7 洛伦兹-德鲁德模型 (Lorentz-Drude Model) | 第44-45页 |
| 2.2.8 材料模型参数的获取 | 第45-47页 |
| 2.3 电子束曝光设备及工艺流程 | 第47-60页 |
| 2.3.1 电子束曝光设备的组成部分 | 第48-49页 |
| 2.3.2 电子束曝光过程 | 第49-55页 |
| 2.3.3 电子束曝光加工工艺流程 | 第55-57页 |
| 2.3.4 影响电子束曝光的参数 | 第57-60页 |
| 2.4 总结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第三章 金纳米线方形网孔电极的透明导电性质 | 第64-82页 |
| 3.1 前言 | 第64-66页 |
| 3.2 实验部分 | 第66-70页 |
| 3.2.1 实验所需试剂 | 第66页 |
| 3.2.2 表征手段 | 第66-67页 |
| 3.2.3 衬底的处理及剥离胶、光刻胶包覆 | 第67页 |
| 3.2.4 电子束曝光、PMMA显影、SF5显影 | 第67-68页 |
| 3.2.5 金属沉积、结构剥离 | 第68-69页 |
| 3.2.6 有限差分时域模拟优化结构参数 | 第69-70页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第70-76页 |
| 3.3.1 结构参数优化和分析 | 第70-74页 |
| 3.3.2 金方形网孔电极的形貌 | 第74页 |
| 3.3.3 测试的金方形网孔电极的光学透过率 | 第74-75页 |
| 3.3.4 金方形网孔电极的导电性质 | 第75-76页 |
| 3.4 本章小结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 第四章 一种新颖的具有表面等离子体光吸收增强作用的纳米结构化银栅-铟锡氧化物复合上电极 | 第82-94页 |
| 4.1 前言 | 第82-83页 |
| 4.2 有限差分时域计算 | 第83-85页 |
| 4.3 设计仿真模拟过程与讨论 | 第85-91页 |
| 4.3.1 铟锡氧化物薄膜厚度的优化 | 第85-86页 |
| 4.3.2 十字形银栅网的线宽对吸收增强的影响 | 第86-88页 |
| 4.3.3 十字形银栅网的高度、周期对吸收增强因子的影响及增强机理分析 | 第88-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-94页 |
| 第五章 一种纳米结构化的金背电极及其在氧化亚铜太阳能电池中的应用 | 第94-106页 |
| 5.1 前言 | 第94-96页 |
| 5.2 实验部分 | 第96-99页 |
| 5.2.1 实验所需试剂 | 第96页 |
| 5.2.2 制样仪器与表征手段 | 第96-97页 |
| 5.2.3 纳米结构化的金背衬底的实验制备 | 第97-98页 |
| 5.2.4 氧化亚铜沉积及器件组装 | 第98-99页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第99-103页 |
| 5.4 小结 | 第103-104页 |
| 参考文献 | 第104-106页 |
| 总结与展望 | 第106-108页 |
| 博士期间发表和未发表的论文 | 第108-109页 |
| 致谢 | 第109页 |
