| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 1. 绪论 | 第9-20页 |
| ·前言 | 第9页 |
| ·气相沉积技术 | 第9-12页 |
| ·物理气相沉积 | 第9-11页 |
| ·化学气相沉积 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射技术 | 第12-16页 |
| ·传统磁控溅射技术 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射原理 | 第13-15页 |
| ·等离子增强技术 | 第15-16页 |
| ·氮化铬涂层国内外发展动态 | 第16-19页 |
| ·氮化铬的结构和性能 | 第16-17页 |
| ·氮化铬基多元结构 | 第17页 |
| ·氮化铬基多层结构 | 第17-18页 |
| ·氮化铬基纳米结构 | 第18页 |
| ·氮化铬基梯度结构 | 第18-19页 |
| ·本论文研究目的和内容 | 第19-20页 |
| 2. 实验材料及设备表征 | 第20-31页 |
| ·实验材料 | 第20页 |
| ·等离子体增强磁场磁控溅射镀膜设备 | 第20-24页 |
| ·设备构成 | 第21-23页 |
| ·工艺操作流程 | 第23-24页 |
| ·样品的表征方法简介 | 第24-31页 |
| ·薄膜的厚度及导电性测试 | 第25-26页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第26-29页 |
| ·硬质薄膜的力学性能测试 | 第29-31页 |
| 3. 不同N_2流量比对CrN_x薄膜微观结构及力学性能的影响 | 第31-44页 |
| ·实验方法 | 第31-32页 |
| ·实验工艺参数 | 第31-32页 |
| ·实验结果与讨论 | 第32-42页 |
| ·沉积速率与迟滞回线 | 第32-34页 |
| ·晶体结构 | 第34-36页 |
| ·表面形貌与化学成份 | 第36-39页 |
| ·显微硬度 | 第39-40页 |
| ·摩擦性能与结合力 | 第40-42页 |
| ·实验检测结果 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 4. 不同基体负偏压对制备CrN薄膜结构和性能的影响 | 第44-52页 |
| ·实验方法 | 第44-45页 |
| ·实验工艺参数 | 第44-45页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第45-51页 |
| ·沉积速率 | 第45页 |
| ·化学成份 | 第45-47页 |
| ·晶体结构 | 第47-48页 |
| ·表面形貌 | 第48-49页 |
| ·显微硬度 | 第49-50页 |
| ·摩擦磨损与结合力 | 第50-51页 |
| ·本章实验检测结果 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 5. 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 作者简介 | 第58-59页 |