| 摘要 | 第1-18页 |
| ABSTRACT | 第18-22页 |
| 符号说明 | 第22-24页 |
| 第一章 绪论 | 第24-46页 |
| ·有机自旋电子学 | 第25-34页 |
| ·自旋电子学 | 第25页 |
| ·自旋的注入及输运 | 第25-28页 |
| ·有机自旋电子学 | 第28-34页 |
| ·有机磁性材料 | 第34-35页 |
| ·八羟基喹啉配合物有机小分子材料 | 第35-38页 |
| ·本论文拟展开的研究内容 | 第38-41页 |
| 参考文献 | 第41-46页 |
| 第二章 样品制备、测试及第一性原理计算方法 | 第46-62页 |
| ·实验材料 | 第46-48页 |
| ·有机小分子材料 | 第46-47页 |
| ·掺杂金属材料 | 第47-48页 |
| ·制备样品所用的设备 | 第48-51页 |
| ·真空热蒸发镀膜设备 | 第48-50页 |
| ·双温区管式炉 | 第50-51页 |
| ·测试方法及设备 | 第51-55页 |
| ·表面形貌的表征 | 第51-52页 |
| ·结构及成分的分析 | 第52-53页 |
| ·磁学性质测量 | 第53-54页 |
| ·光学性质测量 | 第54-55页 |
| ·第一性原理计算及密度泛函理论 | 第55-60页 |
| ·绝热近似 | 第55-56页 |
| ·Hartree-Fock近似 | 第56-57页 |
| ·Hohenberg-Kohn定理 | 第57-58页 |
| ·Kohn-Sham定理 | 第58-59页 |
| ·VASP程序包简介 | 第59页 |
| ·Materials Studio中的CASTEP模块简介 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第三章 铝掺杂八羟基喹啉钴的室温铁磁性 | 第62-74页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·实验方法 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第四章 氧掺杂对八羟基喹啉铜磁学特性的影响：实验和理论研究 | 第74-84页 |
| ·引言 | 第75页 |
| ·实验细节 | 第75页 |
| ·计算方法 | 第75-76页 |
| ·结果与讨论 | 第76-81页 |
| ·小结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 第五章 镝掺杂八羟基喹啉铝的室温铁磁性：实验和理论研究 | 第84-98页 |
| ·引言 | 第85-86页 |
| ·实验方法 | 第86页 |
| ·计算方法和细节 | 第86-87页 |
| ·结果和讨论 | 第87-94页 |
| ·小结 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-98页 |
| 第六章 磁性八羟基喹啉锰晶体的制备及表征 | 第98-108页 |
| ·引言 | 第99页 |
| ·实验细节 | 第99-100页 |
| ·计算方法 | 第100页 |
| ·结果与讨论 | 第100-106页 |
| ·小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-108页 |
| 第七章 低温退火对无定形的八羟基喹啉铝薄膜结构和光学性质的影响 | 第108-118页 |
| ·引言 | 第109页 |
| ·实验方法 | 第109-110页 |
| ·结果与讨论 | 第110-115页 |
| ·微观形貌分析 | 第110-111页 |
| ·XRD分析 | 第111-112页 |
| ·光学性质研究 | 第112-115页 |
| ·小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-118页 |
| 第八章 总结与展望 | 第118-124页 |
| ·主要结论 | 第119-121页 |
| ·主要创新点 | 第121-122页 |
| ·论文的不足与展望 | 第122-124页 |
| 附图、表目录及说明 | 第124-128页 |
| 攻读博士期间发表的论文及专利目录 | 第128-130页 |
| 致谢 | 第130-132页 |
| 附录：发表英文论文 | 第132-148页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第148页 |
