摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
1 绪论 | 第12-20页 |
·引言 | 第12页 |
·金属氧化物的物理性质 | 第12-16页 |
·多铁性(Multiferroicity) | 第12-15页 |
·电阻开关特性(Resistive switching property) | 第15-16页 |
·氧空位对金属氧化物物理性质的影响 | 第16-17页 |
·多孔金属氧化物薄膜材料 | 第17-19页 |
·主要研究内容 | 第19-20页 |
2 有序多孔薄膜的制备及表征 | 第20-30页 |
·多孔氧化铝的制备 | 第20-23页 |
·实验仪器及原材料 | 第20-21页 |
·PAA制备过程 | 第21-23页 |
·PAA薄膜的形成机理 | 第23页 |
·磁控溅射法制备多孔薄膜 | 第23-25页 |
·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
·磁控溅射过程的可调参数 | 第24-25页 |
·测试仪器 | 第25-30页 |
·扫描探针显微镜 | 第25-26页 |
·扫描电子显微镜 | 第26页 |
·X射线衍射仪 | 第26-27页 |
·紫外可见分光光度计 | 第27-28页 |
·物理性能测试系统 | 第28页 |
·铁电测试仪 | 第28-29页 |
·电流-电压测试(I-V) | 第29-30页 |
3 PAA薄膜的制备及表征 | 第30-42页 |
·引言 | 第30-31页 |
·PAA薄膜的制备过程 | 第31-32页 |
·PAA薄膜的表征 | 第32-35页 |
·样品的形貌表征 | 第32-34页 |
·样品的结构表征 | 第34-35页 |
·PAA薄膜的物理性质的研究 | 第35-41页 |
·多孔薄膜铁电性(Ferroelectricity)的表征 | 第35-37页 |
·多孔薄膜铁磁性(Ferromagnetism)的表征 | 第37-39页 |
·多孔薄膜电阻开关特性(Resistive Switching)的表征 | 第39-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
4 多孔ZnO薄膜的制备及表征 | 第42-57页 |
·引言 | 第42-43页 |
·多孔ZnO薄膜的制备 | 第43-45页 |
·不同基底温度下制备ZnO薄膜 | 第43-44页 |
·不同氧流量的条件下制备ZnO薄膜 | 第44页 |
·不同溅射时间下制备ZnO薄膜 | 第44-45页 |
·多孔ZnO薄膜的表征 | 第45-55页 |
·ZnO薄膜的表面和结构表征 | 第45-47页 |
·ZnO薄膜的室温铁磁性表征及分析 | 第47-53页 |
·ZnO/PAA复合薄膜电阻开关特性(RS)的表征及分析 | 第53-55页 |
·ZnO/PAA复合薄膜RS行为对铁磁性的影响 | 第55页 |
·小结 | 第55-57页 |
5 多孔Cu2O薄膜的制备及表征 | 第57-65页 |
·引言 | 第57页 |
·多孔Cu_2O薄膜的制备 | 第57-58页 |
·多孔Cu_2O薄膜的表征 | 第58-63页 |
·多孔Cu_2O薄膜的形貌和结构表征 | 第58-60页 |
·多孔Cu_2O薄膜的铁磁性表征 | 第60-63页 |
·多孔Cu_2O薄膜铁磁性的起因 | 第63-64页 |
·小结 | 第64-65页 |
6 TiO2薄膜的制备及表征 | 第65-68页 |
·引言 | 第65页 |
·多孔的和致密的TiO_2薄膜的制备 | 第65页 |
·多孔的和致密的TiO_2薄膜的表征 | 第65-67页 |
·小结 | 第67-68页 |
7 Ag掺杂ZnO薄膜的制备及表征 | 第68-72页 |
·引言 | 第68页 |
·Ag掺杂ZnO(Ag:ZnO)多孔薄膜的制备 | 第68-69页 |
·Ag:ZnO多孔薄膜的表征 | 第69-71页 |
·Ag:ZnO 薄膜的形貌和结构表征 | 第69-70页 |
·Ag:ZnO薄膜的铁磁性表征 | 第70-71页 |
·小结 | 第71-72页 |
8 多孔金属氧化物物理性质的起因 | 第72-75页 |
·引言 | 第72页 |
·多孔氧化物中氧空位的产生 | 第72-73页 |
·氧空位的作用 | 第73页 |
·多孔金属氧化物中存在氧空位的证据 | 第73-75页 |
9 总结 | 第75-78页 |
·结论 | 第75-77页 |
·工作创新点 | 第77页 |
·工作展望 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-91页 |
致谢 | 第91-92页 |
攻读学位期间取得的科研成果清单 | 第92-9页 |