| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 目录 | 第11-14页 |
| 第一章 引言 | 第14-24页 |
| ·电子枪的分类及发展历史 | 第14-18页 |
| ·热阴极电子枪 | 第14-16页 |
| ·光阴极电子枪 | 第16-17页 |
| ·其它类型的电子发射 | 第17-18页 |
| ·微波微脉冲电子枪的发展历史 | 第18-20页 |
| References | 第20-24页 |
| 第二章 二次电子倍增理论与新模型 | 第24-46页 |
| ·二次电子倍增理论 | 第24-27页 |
| ·二次电子倍增的基本概念 | 第25-27页 |
| ·双平板中的二次电子倍增 | 第27-32页 |
| ·双平板中的共振条件 | 第27-29页 |
| ·双平板中的倍增区域 | 第29-30页 |
| ·双平板中的相位聚焦机制（phase focusing mechanism） | 第30-32页 |
| ·微脉冲电子枪中的二次电子倍增 | 第32-34页 |
| ·微脉冲电子枪中的共振条件 | 第32-34页 |
| ·微脉冲电子枪中的相位聚焦机制 | 第34页 |
| ·二次电子倍增新模型 | 第34-43页 |
| ·二次电子倍增新模型 | 第35-36页 |
| ·饱和阶段的电子轨迹 | 第36-37页 |
| ·Ribbon modes | 第37-43页 |
| References | 第43-46页 |
| 第三章 微脉冲电子枪的物理特性和参数设计优化 | 第46-70页 |
| ·微波微脉冲电子枪的物理特性 | 第46-49页 |
| ·微波微脉冲电子枪的基本原理 | 第46-47页 |
| ·微脉冲电子枪的栅网特性 | 第47页 |
| ·微脉冲电子枪中从两点倍增到一点倍增的转变 | 第47-49页 |
| ·微脉冲电子枪基本谐振参数的一般设计 | 第49-52页 |
| ·电子枪腔体频率和电子碰撞能量的确定 | 第49页 |
| ·阴阳极间隙D和腔压的确定 | 第49-52页 |
| ·微脉冲电子枪结构和微波参数的设计优化 | 第52-68页 |
| ·新型双边皮尔斯腔体结构的提出 | 第53-56页 |
| ·双栅网阴阳极系统的提出 | 第56-61页 |
| ·束流品质的优化 | 第61-62页 |
| ·束流动力学的计算 | 第62-64页 |
| ·耦合孔的设计及优化 | 第64-66页 |
| ·抗流结构的设计 | 第66-68页 |
| References | 第68-70页 |
| 第四章 微脉冲电子枪腔体的工程设计与微波测量实验 | 第70-88页 |
| ·微脉冲电子枪腔体结构的工程设计与加工 | 第70-75页 |
| ·主要腔体结构工程设计与加工 | 第70-73页 |
| ·阴阳极结构的加工与装配 | 第73-75页 |
| ·微脉冲电子枪的微波测量系统与微波测量 | 第75-87页 |
| ·微波测量理论[1-3] | 第75-80页 |
| ·微波测量调谐平台 | 第80页 |
| ·微波测量调谐 | 第80-87页 |
| References | 第87-88页 |
| 第五章 微脉冲电子枪的阴阳极工艺和高功率实验 | 第88-102页 |
| ·阴阳极工艺 | 第88-89页 |
| ·阴阳极材料的选择 | 第88页 |
| ·阴阳极镀膜工艺 | 第88-89页 |
| ·微脉冲电子枪高功率实验 | 第89-100页 |
| ·束流测量系统的设计 | 第89-93页 |
| ·高功率测量平台 | 第93页 |
| ·高功率测试实验结果 | 第93-98页 |
| ·实验总结 | 第98-100页 |
| References | 第100-102页 |
| 第六章 新型微脉冲电子枪的研究 | 第102-116页 |
| ·单腔形微脉冲电子枪的局限性 | 第102页 |
| ·新型微脉冲电子枪 | 第102-115页 |
| ·腔距D=1.2 cm的情况 | 第103-106页 |
| ·腔距D=6.0 cm的情况 | 第106-107页 |
| ·ITC结构微脉冲电子枪的初步研究 | 第107-115页 |
| References | 第115-116页 |
| 第七章 结论与展望 | 第116-118页 |
| 附录 A Index of Symbols | 第118-120页 |
| 附录 B Software Codes | 第120-132页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第132-134页 |
| 指导教师及作者简介 | 第134页 |