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等离子体改性镍基催化剂的制备及光催化性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第1章 绪论第10-22页
   ·印染废水概况第10-13页
     ·印染废水的特点及危害第10-11页
     ·印染废水常用方法及比较第11-13页
   ·光催化剂在废水处理中的应用第13-15页
   ·光催化氧化反应的机理第15-17页
   ·光催化氧化的发展现状第17-19页
     ·国外光催化氧化发展现状第17-18页
     ·国内光催化氧化发展现状第18-19页
   ·等离子体技术及其在催化反应中的应用第19-20页
   ·研究意义和内容第20-22页
     ·研究意义第20页
     ·研究内容第20-22页
第2章 实验研究方法第22-28页
   ·实验方法第22-24页
     ·实验原料第22-23页
     ·实验仪器第23-24页
   ·催化剂的制备第24-25页
     ·NiO-Ti0_2/Si0_2 催化剂的制备第24页
     ·NiO/γ-A1203 催化剂的制备第24页
     ·NiO-CuO/Ti0_2 催化剂的制备第24-25页
   ·性能测试第25页
   ·结构表征第25-28页
     ·催化剂的比表面积第25页
     ·扫描电镜--SEM第25-26页
     ·X 射线衍射(XRD)第26页
     ·傅里叶变换红外光谱(FT-IR)第26-27页
     ·紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)第27-28页
第3章 等离子体改性制备NiO/γ-A1203及其对甲基橙的降解性能第28-40页
   ·前言第28页
   ·制备条件对甲基橙降解效率的影响第28-35页
     ·氧化镍含量对降解效率的影响第28-29页
     ·放电功率对降解效率的影响第29-31页
     ·焙烧温度对降解效率的影响第31-32页
     ·焙烧时间对降解效率的影响第32-33页
     ·光照时间对降解效率的影响第33-34页
     ·催化剂用量对降解效率的影响第34-35页
   ·催化剂的性能表征第35-38页
     ·X 射线衍射(XRD)分析第35-36页
     ·催化剂的比表面积第36页
     ·红外光谱(FT-IR)分析第36-37页
     ·紫外可见(UV-VIS)光谱分析第37-38页
   ·本章小结第38-40页
第4章 等离子体改性制备NiO-Ti0_2/Si0_2及其对甲基橙的降解性能第40-51页
   ·前言第40-41页
   ·制备条件对甲基橙降解效率的影响第41-46页
     ·Ti/Si 比例对降解效率的影响第41-42页
     ·等离子体处理对降解效率的影响第42-43页
     ·等离子体处理时间对降解效率的影响第43-44页
     ·焙烧温度对降解效率的影响第44-45页
     ·焙烧时间对降解效率的影响第45-46页
   ·催化剂的性能表征第46-50页
     ·比表面积分析第46-47页
     ·红外光谱(FT-IR)分析第47-48页
     ·X 射线衍射(XRD)分析第48-49页
     ·扫描电镜(SEM)分析第49-50页
   ·本章小结第50-51页
第5章 等离子体改性制备NiO-CuO/Ti0_2及其降解甲基橙的性能第51-64页
   ·前言第51-52页
   ·CuO-Ti0_2 的光催化活性第52-54页
     ·CuO 含量对降解效率的影响第52-53页
     ·反应时间对降解效率的影响第53-54页
   ·NiO-Ti0_2 的光催化活性第54-56页
     ·NiO 含量对降解效率的影响第54-55页
     ·反应时间对降解效率的影响第55-56页
   ·NiO-CuO/Ti0_2 的光催化活性第56-60页
     ·NiO 及CuO 含量对降解效率的影响第56-57页
     ·反应时间对降解效率的影响第57-59页
     ·催化剂降解效率的比较第59-60页
   ·催化剂的性能表征第60-62页
     ·红外光谱分析第60-61页
     ·X 射线衍射(XRD)分析第61页
     ·紫外可见(UV-VIS)光谱分析第61-62页
   ·本章小结第62-64页
结论第64-66页
参考文献第66-72页
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果第72-73页
致谢第73-74页
作者简介第74页

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