摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
·印染废水概况 | 第10-13页 |
·印染废水的特点及危害 | 第10-11页 |
·印染废水常用方法及比较 | 第11-13页 |
·光催化剂在废水处理中的应用 | 第13-15页 |
·光催化氧化反应的机理 | 第15-17页 |
·光催化氧化的发展现状 | 第17-19页 |
·国外光催化氧化发展现状 | 第17-18页 |
·国内光催化氧化发展现状 | 第18-19页 |
·等离子体技术及其在催化反应中的应用 | 第19-20页 |
·研究意义和内容 | 第20-22页 |
·研究意义 | 第20页 |
·研究内容 | 第20-22页 |
第2章 实验研究方法 | 第22-28页 |
·实验方法 | 第22-24页 |
·实验原料 | 第22-23页 |
·实验仪器 | 第23-24页 |
·催化剂的制备 | 第24-25页 |
·NiO-Ti0_2/Si0_2 催化剂的制备 | 第24页 |
·NiO/γ-A1203 催化剂的制备 | 第24页 |
·NiO-CuO/Ti0_2 催化剂的制备 | 第24-25页 |
·性能测试 | 第25页 |
·结构表征 | 第25-28页 |
·催化剂的比表面积 | 第25页 |
·扫描电镜--SEM | 第25-26页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第26页 |
·傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第26-27页 |
·紫外-可见吸收光谱(UV-Vis) | 第27-28页 |
第3章 等离子体改性制备NiO/γ-A1203及其对甲基橙的降解性能 | 第28-40页 |
·前言 | 第28页 |
·制备条件对甲基橙降解效率的影响 | 第28-35页 |
·氧化镍含量对降解效率的影响 | 第28-29页 |
·放电功率对降解效率的影响 | 第29-31页 |
·焙烧温度对降解效率的影响 | 第31-32页 |
·焙烧时间对降解效率的影响 | 第32-33页 |
·光照时间对降解效率的影响 | 第33-34页 |
·催化剂用量对降解效率的影响 | 第34-35页 |
·催化剂的性能表征 | 第35-38页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第35-36页 |
·催化剂的比表面积 | 第36页 |
·红外光谱(FT-IR)分析 | 第36-37页 |
·紫外可见(UV-VIS)光谱分析 | 第37-38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
第4章 等离子体改性制备NiO-Ti0_2/Si0_2及其对甲基橙的降解性能 | 第40-51页 |
·前言 | 第40-41页 |
·制备条件对甲基橙降解效率的影响 | 第41-46页 |
·Ti/Si 比例对降解效率的影响 | 第41-42页 |
·等离子体处理对降解效率的影响 | 第42-43页 |
·等离子体处理时间对降解效率的影响 | 第43-44页 |
·焙烧温度对降解效率的影响 | 第44-45页 |
·焙烧时间对降解效率的影响 | 第45-46页 |
·催化剂的性能表征 | 第46-50页 |
·比表面积分析 | 第46-47页 |
·红外光谱(FT-IR)分析 | 第47-48页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第48-49页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第5章 等离子体改性制备NiO-CuO/Ti0_2及其降解甲基橙的性能 | 第51-64页 |
·前言 | 第51-52页 |
·CuO-Ti0_2 的光催化活性 | 第52-54页 |
·CuO 含量对降解效率的影响 | 第52-53页 |
·反应时间对降解效率的影响 | 第53-54页 |
·NiO-Ti0_2 的光催化活性 | 第54-56页 |
·NiO 含量对降解效率的影响 | 第54-55页 |
·反应时间对降解效率的影响 | 第55-56页 |
·NiO-CuO/Ti0_2 的光催化活性 | 第56-60页 |
·NiO 及CuO 含量对降解效率的影响 | 第56-57页 |
·反应时间对降解效率的影响 | 第57-59页 |
·催化剂降解效率的比较 | 第59-60页 |
·催化剂的性能表征 | 第60-62页 |
·红外光谱分析 | 第60-61页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第61页 |
·紫外可见(UV-VIS)光谱分析 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
作者简介 | 第74页 |