用于光束整形与超分辨成像的衍射光学元件的设计和实验
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 衍射光学元件简介 | 第13-29页 |
| ·衍射光学元件背景介绍 | 第13-17页 |
| ·衍射光学元件发展史 | 第13-15页 |
| ·衍射光学元件的特点和应用 | 第15-17页 |
| ·衍射光学元件的设计原理与方法 | 第17-24页 |
| ·衍射光学元件的设计思想 | 第17-18页 |
| ·基于傅里叶变换的迭代算法 | 第18-23页 |
| ·元件性能的评价指标 | 第23-24页 |
| ·衍射光学元件的制作工艺 | 第24-27页 |
| ·紫外光刻工艺 | 第24-25页 |
| ·离子束刻蚀工艺 | 第25-26页 |
| ·掩模套刻方法 | 第26-27页 |
| ·本部分内容安排 | 第27-29页 |
| 第二章 DOE 表面反射对高功率激光系统的影响 | 第29-47页 |
| ·惯性约束核聚变系统中用于均匀照明的DOE | 第29-35页 |
| ·ICF 中的光学制造工程 | 第29-32页 |
| ·用于ICF 的衍射光学元件 | 第32-35页 |
| ·DOE 表面反射场的计算分析 | 第35-39页 |
| ·原始设计结果 | 第36-37页 |
| ·反射光场随距离的变化 | 第37-39页 |
| ·DOE 倾斜放置对焦斑的影响 | 第39-44页 |
| ·DOE 倾斜放置的数值模拟 | 第39-43页 |
| ·DOE 倾斜放置的实验结果 | 第43-44页 |
| ·位相补偿原理和模拟结果 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 双透镜系统光束整形元件的设计制作 | 第47-59页 |
| ·设计原理 | 第47-51页 |
| ·设计思想 | 第47-48页 |
| ·迭代算法的改进 | 第48-51页 |
| ·设计结果 | 第51-54页 |
| ·方形设计结果 | 第52-53页 |
| ·圆形设计结果 | 第53-54页 |
| ·实验测试结果 | 第54-57页 |
| ·整形测试结果 | 第54-56页 |
| ·能量利用率测试结果 | 第56-57页 |
| ·结果分析与小结 | 第57-59页 |
| 第四章 突破衍射极限的超分辨成像 | 第59-73页 |
| ·研究背景介绍 | 第59-66页 |
| ·衍射受限和分辨率 | 第59-61页 |
| ·突破衍射极限的光学显微镜 | 第61-66页 |
| ·远场超透镜的成像原理与设计实例 | 第66-71页 |
| ·远场超透镜的成像原理 | 第66-69页 |
| ·远场超透镜的设计实例 | 第69-71页 |
| ·本部分内容安排 | 第71-73页 |
| 第五章 光栅衍射特性的严格耦合波分析方法 | 第73-89页 |
| ·一维矩形光栅的RCWA 方法 | 第73-85页 |
| ·入射光为任意偏振时的分析 | 第73-81页 |
| ·入射光为TE 偏振时的分析 | 第81-83页 |
| ·入射光为TM 偏振时的分析 | 第83-85页 |
| ·光栅的衍射效率 | 第85-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 环形光栅的衍射特性分析 | 第89-99页 |
| ·环形光栅的电磁场解法 | 第89-92页 |
| ·环形光栅的衍射特性分析 | 第92-97页 |
| ·本章小结 | 第97-99页 |
| 第七章 总结与展望 | 第99-103页 |
| ·总结 | 第99-100页 |
| ·展望 | 第100-103页 |
| 参考文献 | 第103-112页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第112-113页 |
| 致谢 | 第113-114页 |
