| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 前言 | 第11-13页 |
| 第二章 文献综述 | 第13-33页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第13-15页 |
| ·氧化锌的结构特性 | 第15-17页 |
| ·体单晶 | 第15页 |
| ·薄膜 | 第15-16页 |
| ·纳米结构 | 第16-17页 |
| ·氧化锌的光电性能 | 第17-22页 |
| ·能带结构 | 第17-19页 |
| ·氧化锌中的掺杂 | 第19-22页 |
| ·本征缺陷 | 第19页 |
| ·n型掺杂 | 第19-21页 |
| ·p型掺杂 | 第21-22页 |
| ·氧化锌的光学特性 | 第22-28页 |
| ·近带边发光 | 第22-27页 |
| ·深能级发光 | 第27-28页 |
| ·ZnO基光电器件研究 | 第28-32页 |
| ·p-n结发光二极管 | 第28-30页 |
| ·同质结 | 第28-29页 |
| ·异质结 | 第29-30页 |
| ·MIS结构发光二极管 | 第30页 |
| ·增强ZnO基材料发光 | 第30-32页 |
| ·本文研究思路 | 第32-33页 |
| 第三章 实验原理、生长工艺及评价手段 | 第33-41页 |
| ·金属有机化学气相沉积 | 第33-38页 |
| ·原理 | 第33-36页 |
| ·原料与工艺 | 第36页 |
| ·专用常压MOCVD设备的研制 | 第36-38页 |
| ·电子束蒸发 | 第38-39页 |
| ·原理 | 第38-39页 |
| ·原料与工艺 | 第39页 |
| ·衬底及清洗方法 | 第39页 |
| ·测试方法 | 第39-41页 |
| 第四章 ZnO纳米结构的光学性质 | 第41-66页 |
| ·ZnO薄膜与ZnO纳米棒状阵列的生长条件研究 | 第41-47页 |
| ·ZnO纳米棒阵列的光学性质：自由激子 | 第47-58页 |
| ·ZnO纳米棒阵列的光学性质：表面激子 | 第58-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第五章 表面等离激元共振增强ZnO的发光 | 第66-86页 |
| ·表面等离激元共振的基础理论 | 第66-69页 |
| ·金属表面等离激元共振的选择 | 第69-72页 |
| ·金属铝的表面等离激元共振增强ZnO带边发射 | 第72-79页 |
| ·SPR增强MIS结构的电致发光 | 第79-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第六章 MOCVD法生长Na掺杂ZnO | 第86-97页 |
| ·Na的金属有机源 | 第86-87页 |
| ·Na源温度对MOCVD法生长Na掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第87-89页 |
| ·衬底温度对MOCVD生长Na掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第89-92页 |
| ·ZnO单晶衬底同质PN结 | 第92-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第七章 结论 | 第97-99页 |
| ·全文总结 | 第97-98页 |
| ·本文主要创新点 | 第98页 |
| ·未来工作展望 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-117页 |
| 致谢 | 第117-119页 |
| 个人简历 | 第119-121页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第121-123页 |