| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-15页 |
| ·纳米管的研究进展概述 | 第10页 |
| ·硼纳米管的研究进展 | 第10-12页 |
| ·界面的结构研究进展 | 第12-13页 |
| ·原子间相互作用势 | 第13-14页 |
| ·论文的研究内容 | 第14-15页 |
| 2 第一性原理的理论基础和计算方法 | 第15-22页 |
| ·从头计算方法 | 第15-17页 |
| ·多粒子体系的薛定谔方程 | 第15页 |
| ·从头计算方法的三个近似 | 第15-17页 |
| ·密度泛函理论 | 第17-19页 |
| ·Thomas-Fermi 模型 | 第17-18页 |
| ·Kohn-Sham 方法 | 第18-19页 |
| ·固体能带论的相关问题 | 第19-20页 |
| ·固体能带理论计算方法 | 第19-20页 |
| ·赝势 | 第20页 |
| ·Dmol3和Castep模块简介 | 第20页 |
| ·Chen-Mobius反演方法简介 | 第20-22页 |
| 3 硼纳米管的第一性原理研究 | 第22-33页 |
| ·引言 | 第22-24页 |
| ·计算方法 | 第24页 |
| ·模型的构建 | 第24-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 4 Cu 和 TaN 体材料对势的反演 | 第33-38页 |
| ·前言 | 第33-34页 |
| ·计算方法 | 第34页 |
| ·Cu 和 TaN 势参数的获得和检验 | 第34-37页 |
| ·TaN 原子间相互作用势参数应用于其它几种比例结构 Ta_xN_y的效果 | 第37-38页 |
| 5 Cu/TaN 界面结构性质及位错的研究 | 第38-60页 |
| ·前言 | 第38-39页 |
| ·界面反演公式的推导 | 第39-44页 |
| ·界面粘结能曲线的计算 | 第44-45页 |
| ·界面二体势的反演 | 第45-48页 |
| ·界面的位错 | 第48-58页 |
| ·位错模型的构造及计算方法 | 第48-49页 |
| ·位错结构的结果分析 | 第49-56页 |
| ·位错密度 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 致谢 | 第69页 |