| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·半导体硅(Si)与铁磁性半导体简介 | 第9-12页 |
| ·半导体硅特性介绍 | 第9页 |
| ·物质的磁性 | 第9-12页 |
| ·稀磁半导体介绍 | 第12-15页 |
| ·自旋电子学概述 | 第12-13页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第13-15页 |
| ·稀磁Si半导体研究现状与研究意义 | 第15-18页 |
| ·稀磁Si半导体研究现状 | 第15-17页 |
| ·稀磁Si半导体的研究意义 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 样品制备技术与表征方法 | 第20-38页 |
| ·制备仪器介绍 | 第20-27页 |
| ·磁控溅射设备(Magnetron Sputtering) | 第20-24页 |
| ·管式炉 | 第24-27页 |
| ·磁控溅射法制备Sil-xMnx薄膜样品 | 第27-29页 |
| ·样品的表征方法 | 第29-37页 |
| ·X射线衍射(XRD)与红外透射 | 第29-32页 |
| ·扫描电镜(SEM)与原子力显微镜(AFM) | 第32-34页 |
| ·霍尔效应与震动样品磁强计 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 3 薄膜的结构与形貌研究 | 第38-45页 |
| ·薄膜的结构研究 | 第38-40页 |
| ·XRD测试 | 第38-39页 |
| ·Sil-xMnx样品退火后的红外透射测试 | 第39-40页 |
| ·薄膜的形貌研究 | 第40-44页 |
| ·样品SEM测试 | 第40-42页 |
| ·样品AFM测试 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 Sil-xMnx薄膜的电学与磁学特性 | 第45-51页 |
| ·电学特性研究 | 第45-48页 |
| ·电流-电压特性研究 | 第45-46页 |
| ·霍尔效应研究 | 第46-48页 |
| ·磁学特性研究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 5 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |