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Cu2-XS纳米晶的制备及其在光热杀菌中应用

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第15-33页
    1.1 半导体纳米材料简介第15-17页
        1.1.1 半导体纳米材料概述第15页
        1.1.2 半导体纳米晶的局域表面等离子共振(LSPR)效应第15-16页
        1.1.3 硫化物纳米材料的液相合成方法第16-17页
    1.2 纳米材料的表面修饰第17-18页
        1.2.1 物理修饰第17-18页
        1.2.2 化学修饰第18页
    1.3 杀菌领域发展现状第18-22页
        1.3.1 抗生素与多重抗药菌第19页
        1.3.2 光热杀菌简介第19-20页
        1.3.3 杀菌效果的表征方法第20-22页
    1.4 光热杀菌材料简介第22-30页
        1.4.1 贵金属纳米材料在光热杀菌中的应用第23-29页
        1.4.2 半导体光热纳米材料在光热杀菌的应用第29-30页
    1.5 本论文的选题背景和研究内容第30-33页
第二章 Cu_7S_4纳米棒的制备及表面修饰第33-45页
    2.1 引言第33页
    2.2 实验部分第33-37页
        2.2.1 实验试剂第33-34页
        2.2.2 实验仪器第34页
        2.2.3 Cu_7S_4纳米棒的制备方法第34-36页
        2.2.4 Cu_7S_4纳米棒的表征方法第36页
        2.2.5 Cu_7S_4纳米棒的光热性能的研究第36-37页
    2.3 结果与讨论第37-44页
        2.3.1 Cu_7S_4纳米棒的形貌、组成及物相分析第37-39页
        2.3.2 棒状Cu_7S_4形成原因分析第39-40页
        2.3.3 Cu_7S_4纳米棒的光热性能第40-44页
    2.4 本章小结第44-45页
第三章 水溶性Cu_7S_4@PSI_(OAm)纳米棒在光热杀菌中的应用第45-57页
    3.1 引言第45页
    3.2 实验部分第45-48页
        3.2.1 实验试剂第45-46页
        3.2.2 实验仪器第46页
        3.2.3 材料的毒性试验第46页
        3.2.4 细菌的培养与计数第46-47页
        3.2.5 光热杀菌对照实验第47页
        3.2.6 荧光成像表征杀菌效果第47-48页
        3.2.7 改变光照时间探究杀菌效果第48页
        3.2.8 改变光源为实际太阳光探究杀菌效果第48页
        3.2.9 对细菌悬浊液进行热处理第48页
    3.3 结果与讨论第48-56页
        3.3.0 材料毒性第48-49页
        3.3.1 实验菌株镜检结果第49-50页
        3.3.2 细菌的计数第50-51页
        3.3.3 材料光热杀菌的效果第51页
        3.3.4 荧光成像表征杀菌效果第51-53页
        3.3.5 光照时间对杀菌效果的影响第53-54页
        3.3.6 实际太阳光作为光源的杀菌效果第54页
        3.3.7 探究材料抗菌机理第54-56页
    3.4 本章小结第56-57页
第四章 结论第57-59页
参考文献第59-67页
致谢第67-69页
研究成果及发表的学术论文第69-71页
作者和导师简介第71-72页
附件第72-73页

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