| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 1 绪论 | 第13-34页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·刀具表面涂覆技术的发展 | 第13-15页 |
| ·CVD 技术的发展 | 第13-14页 |
| ·PVD 技术的发展 | 第14-15页 |
| ·硬质薄膜的发展及分类 | 第15-17页 |
| ·本征硬质薄膜 | 第15-16页 |
| ·非本征硬质薄膜 | 第16-17页 |
| ·纳米多层膜的研究进展 | 第17-19页 |
| ·金属/金属体系纳米多层膜 | 第17-18页 |
| ·金属/陶瓷体系纳米多层膜 | 第18页 |
| ·陶瓷/陶瓷体系纳米多层膜 | 第18-19页 |
| ·纳米多层膜超硬机制研究 | 第19-24页 |
| ·模量差理论和位错的层内滑移 | 第19-21页 |
| ·Hall-Petch 强化理论 | 第21-22页 |
| ·共格应变理论 | 第22-24页 |
| ·超硬纳米多层膜的性质和微结构特征 | 第24页 |
| ·纳米多层膜的赝晶生长和“模板效应” | 第24-27页 |
| ·亚稳相的外延生长稳定化 | 第25-26页 |
| ·非晶外延强制晶化 | 第26-27页 |
| ·含氧化物纳米多层膜研究进展 | 第27-29页 |
| ·双氧化物纳米多层膜——Al_2O_3/ZrO_2和Y_2O_3/ZrO_2 | 第27页 |
| ·氧化物作为非模板调制层的氮化物/氧化物纳米多层膜 | 第27-29页 |
| ·论文的设计思想与研究内容 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 2 薄膜的制备与检测 | 第34-43页 |
| ·薄膜制备原理及实验设备 | 第34-37页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第34-36页 |
| ·磁控溅射镀膜设备 | 第36-37页 |
| ·薄膜微结构测试的设备与方法 | 第37-38页 |
| ·能量散布光谱仪（EDX） | 第37页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第37页 |
| ·透射电子显微镜观察（TEM） | 第37-38页 |
| ·薄膜力学性能测试的设备与方法 | 第38-42页 |
| ·Fischerscope H100VP 型微力学探针简介 | 第38页 |
| ·Fischerscope H100VP 型微力学探针测量原理 | 第38-40页 |
| ·两步压入法简介 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-43页 |
| 3 金属基薄膜TEM 样品制备 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·TEM 在薄膜材料研究中的重要作用 | 第43-44页 |
| ·制样设备简介 | 第44-46页 |
| ·金属基底薄膜材料的截面TEM 样品制备 | 第46-50页 |
| ·`制样过程 | 第46-48页 |
| ·样品制备结果 | 第48-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 4 ZrO_2/TiN 纳米多层膜中的模板效应和超硬效应 | 第52-63页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·试验过程 | 第53-54页 |
| ·实验结果 | 第54-60页 |
| ·多层膜调制结构分析 | 第54-55页 |
| ·多层膜微结构分析 | 第55-58页 |
| ·多层膜力学性能测量结果 | 第58-60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 5 ZrO_2基纳米多层膜的超硬机理 | 第63-74页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·多层膜超硬效应的理论解释 | 第63-68页 |
| ·模量差理论 | 第63-66页 |
| ·交变应力场理论 | 第66-68页 |
| ·超硬机理研究小结 | 第68页 |
| ·ZrO_2/TiN 纳米多层膜的超硬机理 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 6. 结论 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及申请专利 | 第76-77页 |
| 发表论文 | 第76-77页 |
| 申请专利 | 第77页 |
