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ZnO,SiC薄膜的X射线衍射研究暨高分子体系的微束散射研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-14页
第一章 绪论第14-40页
   ·引言第14-15页
   ·X射线光源第15-20页
     ·常规X射线第15-17页
     ·同步辐射光源第17-20页
   ·X射线探测器第20-22页
   ·同步辐射X射线光学器件第22-27页
     ·单色器第22页
     ·聚焦镜第22-25页
     ·单次反射毛细管第25-27页
   ·X射线衍射基础第27-37页
     ·晶体中的对称性第27-30页
     ·X射线衍射理论第30-37页
 参考文献第37-40页
第二章 NSRL X射线衍射与散射实验线站第40-60页
   ·引言第40页
   ·合肥光源第40-41页
   ·XRDS光束线第41-45页
     ·压弯聚焦镜第43-44页
     ·双晶单色器第44-45页
   ·XRDS实验站第45-48页
     ·仪器设备第45-47页
     ·控制系统第47-48页
   ·XRDS性能测试第48-52页
     ·光斑尺寸第48-49页
     ·波长标定第49-50页
     ·通量测量第50-51页
     ·能量分辨率第51-52页
   ·XRDS在材料学中的典型应用第52-57页
     ·Si/C 20周期多层膜第52-53页
     ·Si标准粉末样品的全谱扫描第53-54页
     ·弛豫铁电体的极化团簇结构第54-55页
     ·[Ho_2(BDC)_3(H_2O)_2]_n单晶结构测定第55-57页
   ·本章小结第57-58页
 参考文献第58-60页
第三章 对半导体薄膜的XRD研究第60-91页
   ·引言第60页
   ·对ZnO薄膜的X射线衍射分析第60-81页
     ·ZnO的晶体结构第61页
     ·脉冲激光沉积(PLD)第61-63页
     ·ZnO薄膜的制备第63-64页
     ·利用CCD采集GID数据第64-66页
     ·GID研究ZnO与不同衬底的界面结构第66-69页
     ·GID研究ZnO/Al_2O_3界面结构第69-73页
     ·非对称衍射研究ZnO的界面结构第73-81页
   ·对SiC薄膜的X射线衍射分析第81-89页
     ·SiC的晶体结构第81-82页
     ·分子束外延生长(MBE)第82-84页
     ·SiC薄膜的制备第84页
     ·GID研究同质外延SiC薄膜的界面结构第84-86页
     ·GID研究SiC/Si薄膜的界面结构第86-88页
     ·非对称衍射研究SiC/Si的界面结构第88-89页
   ·本章小结第89页
 参考文献第89-91页
第四章 微束X射线散射第91-118页
   ·引言第91页
   ·如何得到微束X射线?第91-99页
     ·CHESS,D-line的光束线和实验站第91-92页
     ·微束光斑的特性第92-95页
     ·微束光斑的调试第95-99页
   ·微束X射线小角散射实验(μSAXS)第99-106页
     ·样品情况第100-101页
     ·实验结果与讨论第101-106页
     ·小结第106页
   ·微束X射线掠入射光角散射实验(μGIWAXS)第106-115页
     ·μGIWAXS vs μSAXS第107-109页
     ·样品情况第109页
     ·实验结果与讨论第109-114页
     ·小结第114-115页
   ·本章小结第115页
 参考文献第115-118页
第五章 铁磁单质薄膜的XMCD研究第118-142页
   ·引言第118页
   ·XMCD的基本原理及实验技术第118-123页
     ·XMCD的基本原理第118-122页
     ·XMCD的实验技术第122-123页
   ·软X射线磁性圆二色光束线站介绍第123-126页
     ·XMCD光束线第123-125页
     ·XMCD实验站第125-126页
   ·XMCD对纳米铁磁性薄膜的研究第126-139页
     ·Fe/MgO单晶膜的轨道磁矩和自旋磁矩第127-131页
     ·Fe/MgO单晶薄膜的面内磁各向异性第131-134页
     ·Co膜厚度效应的XMCD研究第134-139页
     ·小结第139页
   ·本章小结第139-140页
 参考文献第140-142页
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果第142-144页
致谢第144页

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