摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
目录 | 第9-12页 |
第一章 前言 | 第12-22页 |
§1.1 研究背景和意义 | 第12-13页 |
§1.2 介质阻挡放电等离子体流动控制原理、组成及其优 | 第13-15页 |
§1.3 国内外DBD等离子体流动控制的研究现状 | 第15-20页 |
§1.3.1 国外DBD等离子体流动控制的研究现状 | 第15-19页 |
§1.3.1.1 气动实验研究 | 第15-17页 |
§1.3.1.2 机理研究 | 第17-18页 |
§1.3.1.3 数值模拟研究 | 第18-19页 |
§1.3.2 国内DBD等离子体流动控制的研究现状 | 第19-20页 |
§1.4 本文主要研究目的和内容 | 第20-22页 |
第二章 等离子体激励效果的诊断与强化手段 | 第22-42页 |
§2.1 引言 | 第22页 |
§2.2 纹影干涉法测量等离子体密度的实验 | 第22-30页 |
§2.2.1 实验装置 | 第23-25页 |
§2.2.2 实验结果和分析 | 第25-30页 |
§2.3 测力实验 | 第30-34页 |
§2.3.1 电子天平实验 | 第30-33页 |
§2.3.2 单摆实验 | 第33-34页 |
§2.4 增强等离子体激励强度的实验研究 | 第34-41页 |
§2.4.1 实验布局 | 第34-35页 |
§2.4.2 实验结果及分析 | 第35-41页 |
§2.4.2.1 等离子体荧光光谱成分分析 | 第35-37页 |
§2.4.2.2 气压的影响 | 第37页 |
§2.4.2.3 改变气体成分的影响 | 第37-39页 |
§2.4.2.4 真空容器充注氦气实验 | 第39-41页 |
§2.5 本章小结 | 第41-42页 |
第三章 平板附面层等离子体激励的数值模拟 | 第42-51页 |
§3.1 引言 | 第42-43页 |
§3.2 数值模型介绍 | 第43-46页 |
§3.2.1 体积力的求法 | 第43页 |
§3.2.2 电势的处理 | 第43-44页 |
§3.2.3 外部电场电势的求法 | 第44页 |
§3.2.4 电荷密度的求法 | 第44-46页 |
§3.2.5 电荷密度、体积力计算结果 | 第46页 |
§3.3 数值模型的验证 | 第46-48页 |
§3.4 层流模型与湍流模型 | 第48-49页 |
§3.5 不同来流速度时的数值模拟 | 第49-50页 |
§3.6 等离子体激励对平板附面层的影响 | 第50页 |
§3.7 本章小结 | 第50-51页 |
第四章 等离子体流动控制的机理分析及验证 | 第51-64页 |
§4.1 引言 | 第51-52页 |
§4.2 撞击效应的验证 | 第52-53页 |
§4.3 温升效应的验证 | 第53-58页 |
§4.3.1 实验布局 | 第54-55页 |
§4.3.2 实验结果和讨论 | 第55页 |
§4.3.3 计算结果与分析 | 第55-58页 |
§4.3.3.1 能量方程边界条件 | 第55页 |
§4.3.3.2 空气物性与温度的关系 | 第55-56页 |
§4.3.3.3 温度分布以及物性参数分布 | 第56-57页 |
§4.3.3.4 速度分布 | 第57-58页 |
§4.4 化学反应效应的验证 | 第58-63页 |
§4.4.1 激光诱导荧光实验系统 | 第58-60页 |
§4.4.2 实验结果与讨论 | 第60-63页 |
§4.5 本章小结 | 第63-64页 |
第五章 基于等离子体激励的外流强剪切流动控制效果测试与分析 | 第64-87页 |
§5.1 引言 | 第64页 |
§5.2 测试方法 | 第64-67页 |
§5.3 实验误差分析 | 第67-68页 |
§5.4 静止流场中施加等离子体激励的实验 | 第68-71页 |
§5.5 平板附面层等离子体激励的实验 | 第71-78页 |
§5.6 等离子体激励控制圆柱绕流的实验 | 第78-84页 |
§5.7 等离子体激励抑制丘形物流动分离的实验 | 第84-86页 |
§5.8 本章小节 | 第86-87页 |
第六章 基于等离子体激励的内流强剪切流动控制效果测试与分析 | 第87-115页 |
§6.1 引言 | 第87页 |
§6.2 等离子体激励抑制压气机叶栅吸力面流动分离的实验 | 第87-99页 |
§6.2.1 实验设备和测试技术 | 第87-90页 |
§6.2.1.1 实验风洞 | 第87-88页 |
§6.2.1.2 测量系统 | 第88页 |
§6.2.1.3 实验误差分析 | 第88页 |
§6.2.1.4 实验件介绍 | 第88-90页 |
§6.2.2 实验结果与分析 | 第90-99页 |
§6.2.2.1 低负荷压气机叶栅实验结果与分析 | 第90-97页 |
§6.2.2.1.1 不同来流速度下等离子体激励效果分析 | 第90-91页 |
§6.2.2.1.2 不同攻角下等离子体激励效果分析 | 第91-92页 |
§6.2.2.1.3 不同激励电压下等离子体激励效果分析 | 第92-93页 |
§6.2.2.1.4 等离子体激励抑制流动分离效果分析 | 第93-97页 |
§6.2.2.2 高负荷压气机叶栅实验结果与分析 | 第97-99页 |
§6.3 等离子体激励对压气机叶栅二次流影响的实验 | 第99-108页 |
§6.3.1 实验设备和测试技术 | 第100-102页 |
§6.3.1.1 实验风洞 | 第100-101页 |
§6.3.1.2 测量系统 | 第101页 |
§6.3.1.3 实验误差分析 | 第101页 |
§6.3.1.4 实验件介绍 | 第101-102页 |
§6.3.2 实验结果与分析 | 第102-108页 |
§6.3.2.1 叶栅流通能力 | 第103-104页 |
§6.3.2.2 叶栅总压损失系数 | 第104-106页 |
§6.3.2.3 叶栅径向流动 | 第106-108页 |
§6.4 等离子体激励扩大压气机稳定性的探索实验 | 第108-114页 |
§6.4.1 测量系统与实验件 | 第108-110页 |
§6.4.2 实验结果与分析 | 第110-114页 |
§6.4.2.1 施加激励前后的对比实验 | 第110-113页 |
§6.4.2.2 激励强度对扩稳效果的影响 | 第113页 |
§6.4.2.3 激励位置对扩稳效果的影响 | 第113-114页 |
§6.5 本章小结 | 第114-115页 |
第七章 总结与展望 | 第115-118页 |
§7.1 主要研究工作和创新点 | 第115-116页 |
§7.2 研究工作展望 | 第116-118页 |
主要符号说明 | 第118-121页 |
图目录 | 第121-125页 |
表目录 | 第125-126页 |
参考文献 | 第126-138页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第138-139页 |
致谢 | 第139页 |