摘要 | 第1-14页 |
ABSTRACT | 第14-16页 |
第一章 绪论 | 第16-30页 |
·课题的来源及意义 | 第16-22页 |
·课题的来源 | 第16页 |
·课题研究的背景和意义 | 第16-22页 |
·国内外现状 | 第22-28页 |
·计算机控制光学表面成形(CCOS)技术进展 | 第22-25页 |
·CCOS技术存在的问题及研究现状 | 第25-28页 |
·论文的主要研究内容 | 第28-30页 |
第二章 AOCMT光学加工机床 | 第30-37页 |
·AOCMT光学加工机床 | 第30-33页 |
·光学非球面的加工需求 | 第30-31页 |
·AOCMT机床的构成和主要功能 | 第31-32页 |
·双旋转研抛工具的设计 | 第32-33页 |
·CCOS的基本原理 | 第33-36页 |
·理论基础—Preston假设 | 第33-34页 |
·CCOS的工作原理 | 第34-35页 |
·CCOS的数学模型 | 第35-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第三章 去除函数的建模与工艺参数研究 | 第37-58页 |
·去除函数的建模 | 第37-39页 |
·理论模型 | 第37-38页 |
·实验模型 | 第38-39页 |
·研磨工艺参数的研究 | 第39-49页 |
·研究方法 | 第39-40页 |
·研磨工艺参数对材料去除效率的影响 | 第40-42页 |
·研磨工艺参数对表面粗糙度的影响 | 第42-44页 |
·研磨工艺参数对亚表面损伤深度的影响 | 第44-48页 |
·研磨工艺参数的选择 | 第48-49页 |
·抛光工艺参数的研究 | 第49-57页 |
·研究方法 | 第49页 |
·抛光工艺参数对材料去除效率的影响 | 第49-51页 |
·抛光工艺参数对表面粗糙度的影响 | 第51-54页 |
·抛光工艺参数对去除函数稳定性的影响 | 第54-56页 |
·抛光工艺参数的选择 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
第四章 面形误差收敛过程的优化控制 | 第58-76页 |
·CCOS技术中驻留时间的求解算法 | 第58-61页 |
·基于加工时间的脉冲迭代法 | 第58-59页 |
·基于加工精度的脉冲迭代法 | 第59页 |
·两种计算方法的比较 | 第59-61页 |
·去除函数的修形能力分析 | 第61-67页 |
·去除函数修形能力的评价指标 | 第61-62页 |
·去除函数参数对修形能力的影响规律 | 第62-65页 |
·去除函数形状参数的优化 | 第65-67页 |
·去除函数相对尺寸、额外去除量对误差收敛比的影响 | 第67-69页 |
·卷积效应对残留误差的影响 | 第69-73页 |
·工艺参数与残留误差关系的建立方法 | 第70-71页 |
·去除函数尺寸对残留误差的影响 | 第71-72页 |
·进给步距对残留误差的影响 | 第72-73页 |
·面形误差修正实例 | 第73-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第五章 小尺度制造误差的产生原因与修正方法 | 第76-98页 |
·光学表面小尺度制造误差的产生原因与评价方法 | 第76-77页 |
·光学表面小尺度制造误差的产生原因 | 第76页 |
·光学表面小尺度制造误差的评价方法 | 第76-77页 |
·修正小尺度制造误差的基础理论 | 第77-80页 |
·材料均匀去除原理 | 第77-78页 |
·基于最大熵原理的研抛设计准则 | 第78-80页 |
·小尺度制造误差的全口径均匀研抛修正法 | 第80-91页 |
·全口径均匀研抛修正法的基本思想 | 第80-81页 |
·工艺参数对小尺度制造误差的修正能力分析 | 第81-85页 |
·研抛盘尺寸上限的选择 | 第85-87页 |
·全口径均匀研抛修正法的应用实例 | 第87-91页 |
·小尺度制造误差的确定区域修正法 | 第91-96页 |
·确定区域修正法的基本思想 | 第91-92页 |
·基于最大熵原理的加工工艺参数的选择 | 第92-94页 |
·确定区域小尺度制造误差的修正实验 | 第94-96页 |
·本章小结 | 第96-98页 |
第六章 大中型非球面研抛加工控制策略及(?)500mm抛物面镜的加工 | 第98-106页 |
·大中型非球面的制造工艺路线和研抛加工控制策略 | 第98-101页 |
·大中型非球面的制造工艺路线 | 第98-99页 |
·大中型非球面研抛加工的控制策略 | 第99-101页 |
·(?)500mm抛物面镜的加工 | 第101-105页 |
·(?)500mm抛物面镜的研磨 | 第101-103页 |
·(?)500mm抛物面镜的抛光 | 第103-105页 |
·本章小结 | 第105-106页 |
第七章 总结与展望 | 第106-108页 |
·全文总结 | 第106-107页 |
·研究展望 | 第107-108页 |
致谢 | 第108-109页 |
参考文献 | 第109-116页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第116页 |