| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·氮化硼的结构及应用 | 第9-13页 |
| ·立方氮化硼(c-BN) | 第9-11页 |
| ·六方氮化硼(h-BN) | 第11-12页 |
| ·菱方氮化硼(r-BN) | 第12-13页 |
| ·E-BN(ExPlosion Boron Nitride) | 第13页 |
| ·立方氮化硼的研究 | 第13-14页 |
| ·当前BN研究中存在的问题 | 第14-15页 |
| ·薄膜与衬底的结合力问题 | 第14-15页 |
| ·薄膜的厚度和纯度 | 第15页 |
| ·BN薄膜的制备技术 | 第15-18页 |
| ·物理气相沉积(PVD)法 | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的目的意义及主要内容 | 第18-19页 |
| ·研究的目的和意义 | 第18页 |
| ·研究的主要内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法与过程 | 第19-26页 |
| ·实验用材 | 第19-20页 |
| ·制备实验装置 | 第20-22页 |
| ·溅射前的工艺参数 | 第22页 |
| ·分析与检测 | 第22-26页 |
| ·电子探针显微分析仪 | 第22页 |
| ·X射线衍射仪 | 第22-23页 |
| ·傅立叶变换红外分析 | 第23页 |
| ·划痕试验仪 | 第23-24页 |
| ·摩擦磨损试验仪 | 第24-26页 |
| 第3章 BN薄膜的形貌分析 | 第26-33页 |
| ·影响BN薄膜形貌的因素 | 第26页 |
| ·实验结果分析 | 第26-30页 |
| ·基片温度对表面形貌的影响 | 第26-28页 |
| ·溅射气压薄膜形貌的的影响 | 第28-29页 |
| ·溅射偏压对薄膜形貌的影响 | 第29-30页 |
| ·薄膜的膜厚观察 | 第30-33页 |
| ·溅射时间对膜厚的影响 | 第30-31页 |
| ·溅射功率对膜厚的影响 | 第31-33页 |
| 第4章 BN薄膜的生长机理研究 | 第33-42页 |
| ·溅射薄膜生长的特点 | 第33页 |
| ·立方氮化硼薄膜的生长机制 | 第33-36页 |
| ·压应力机制 | 第34-35页 |
| ·热峰机制 | 第35页 |
| ·溅射机制 | 第35-36页 |
| ·BN薄膜生长实验分析 | 第36-42页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第37-38页 |
| ·氮气流量对薄膜结构的影响 | 第38-39页 |
| ·基片负偏压对薄膜结构的影响 | 第39-40页 |
| ·溅射气压对薄膜结构的影响 | 第40-42页 |
| 第5章 BN薄膜的性能研究 | 第42-58页 |
| ·薄膜的结合力理论 | 第42-43页 |
| ·实验结果分析 | 第43-46页 |
| ·基片表面状态对结合力的影响 | 第43-44页 |
| ·溅射工艺参数对薄膜结合力的影响 | 第44-46页 |
| ·提高薄膜结合力的研究 | 第46-51页 |
| ·薄膜结合力改善的方法 | 第46-47页 |
| ·中间层的制备 | 第47-50页 |
| ·基体氮化 | 第50页 |
| ·磁控溅射后的热处理 | 第50-51页 |
| ·实验结果分析 | 第51-54页 |
| ·化学镀Ni-P中间层对结合力的影响 | 第51页 |
| ·中间层TiN对结合力的影响 | 第51-52页 |
| ·基体表面软氮化对结合力的影响 | 第52-53页 |
| ·溅射后热处理对结合力的影响 | 第53-54页 |
| ·BN薄膜的摩擦学性能研究 | 第54-58页 |
| ·摩擦系数分析 | 第54-56页 |
| ·磨损量分析 | 第56-57页 |
| ·磨损形貌观察 | 第57-58页 |
| 第6章 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第63页 |