氧化锌薄膜的制备及压敏性质研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| ·纳米材料及其基本特性 | 第11-12页 |
| ·纳米材料简介 | 第11页 |
| ·纳米材料的基本特性 | 第11-12页 |
| ·薄膜技术的发展 | 第12-14页 |
| ·薄膜技术的发展过程 | 第12-13页 |
| ·薄膜的体系性能及应用 | 第13-14页 |
| ·薄膜材料的分类 | 第14-20页 |
| ·导电薄膜 | 第14-15页 |
| ·电阻薄膜 | 第15-16页 |
| ·半导体薄膜 | 第16页 |
| ·介质薄膜 | 第16-17页 |
| ·磁性薄膜 | 第17-18页 |
| ·压电薄膜 | 第18页 |
| ·热电薄膜 | 第18-19页 |
| ·超导薄膜 | 第19-20页 |
| ·ZnO的结构特性 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的基本性质 | 第21-25页 |
| ·光学特性 | 第21-22页 |
| ·光催化特性 | 第22-24页 |
| ·光电转换特性 | 第24页 |
| ·气敏特性 | 第24页 |
| ·压敏特性 | 第24-25页 |
| ·氧化锌薄膜的应用 | 第25-27页 |
| ·制作紫外光探测器 | 第25页 |
| ·可与GaN互作缓冲层 | 第25-26页 |
| ·用于光电器件的单片集成 | 第26页 |
| ·制作表面声波器件 | 第26-27页 |
| ·本文研究的目的及内容 | 第27-28页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备氧化锌薄膜 | 第28-56页 |
| ·薄膜生长过程概述 | 第28-29页 |
| ·ZnO薄膜制备技术进展 | 第29-33页 |
| ·磁控溅射法 | 第29-30页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第30页 |
| ·分子束外延法 | 第30-31页 |
| ·化学气相沉积法 | 第31页 |
| ·喷雾热分解法 | 第31-32页 |
| ·金属有机物气相外延法 | 第32页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第32-33页 |
| ·薄膜氧化法 | 第33页 |
| ·实验 | 第33-43页 |
| ·本实验采用方法 | 第33-35页 |
| ·实验材料及设备 | 第35页 |
| ·氧化锌薄膜的制备工艺过程 | 第35-36页 |
| ·有机溶胶的制备 | 第36-37页 |
| ·基片的预处理 | 第37-39页 |
| ·镀膜 | 第39-40页 |
| ·预烧处理 | 第40-41页 |
| ·退火处理 | 第41页 |
| ·薄膜制备工艺参数 | 第41-43页 |
| ·实验结果与讨论 | 第43-56页 |
| ·氧化锌薄膜的厚度测量 | 第43-46页 |
| ·预热温度和退火温度对薄膜的影响作用 | 第46页 |
| ·提拉速度对膜厚的影响 | 第46-47页 |
| ·预烧温度对薄膜的影响 | 第47-48页 |
| ·退火温度对膜厚的影响 | 第48-49页 |
| ·溶胶浓度对膜厚的影响 | 第49-50页 |
| ·x射线衍射分析 | 第50-51页 |
| ·黑体辐射热辐射性能表征 | 第51-53页 |
| ·氧化锌薄膜的SEM表征 | 第53-56页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备掺铝的氧化锌薄膜 | 第56-72页 |
| ·实验 | 第56-62页 |
| ·薄膜导电原理 | 第56-57页 |
| ·导电薄膜的电阻测量方法 | 第57-60页 |
| ·实验样品制备 | 第60-62页 |
| ·实验结果与讨论 | 第62-72页 |
| ·电阻测量数据 | 第62-63页 |
| ·掺铝的氧化锌X射线衍射分析 | 第63-64页 |
| ·掺杂铝量对薄膜电阻率的影响 | 第64-65页 |
| ·薄膜厚度对电阻率的影响 | 第65-66页 |
| ·退火温度对薄膜电阻率的影响 | 第66-67页 |
| ·掺铝氧化锌薄膜的SEM表征 | 第67-68页 |
| ·薄膜压敏性探讨 | 第68-72页 |
| 第四章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 在学研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
