| 第一章 绪论 | 第1-31页 |
| ·蒙脱土的结构与物化性能 | 第16-23页 |
| ·蒙脱土的表面修饰 | 第17-18页 |
| ·蒙脱土的有机改性剂 | 第18-19页 |
| ·有机改性剂/蒙脱土层间复合物的结构与性能 | 第19-22页 |
| ·离子液体在蒙脱土表面修饰中的应用 | 第22-23页 |
| ·聚合物/蒙脱土纳米复合材料的制备方法 | 第23-25页 |
| ·聚合物/层状硅酸盐复合材料的类型 | 第23页 |
| ·聚合物/层状硅酸盐复合材料的制备方法 | 第23-25页 |
| ·聚合物/蒙脱土纳米复合材料的结构特点 | 第25-26页 |
| ·影响聚合物/蒙脱土纳米复合材料耐热性的因素 | 第26-27页 |
| ·蒙脱土对PLSN耐热性的影响 | 第26-27页 |
| ·有机改性剂对PLSN耐热性的影响 | 第27页 |
| ·聚丙烯/蒙脱土纳米复合材料 | 第27-29页 |
| ·本文的研究目标和研究内容 | 第29-31页 |
| ·主要研究目标 | 第29-30页 |
| ·主要研究内容 | 第30-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-34页 |
| ·原料及实验设备 | 第31页 |
| ·原料及药品 | 第31页 |
| ·实验设备 | 第31页 |
| ·实验方法 | 第31-32页 |
| ·离子液体的合成 | 第31页 |
| ·蒙脱土的表面修饰 | 第31-32页 |
| ·聚丙烯/蒙脱土复合材料的制备 | 第32页 |
| ·结构表征及性能测定 | 第32-34页 |
| ·力学性能测试 | 第32页 |
| ·热失重分析(TGA) | 第32页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第32页 |
| ·差示扫描量热分析(DSC) | 第32页 |
| ·红外测试(FT-IR) | 第32页 |
| ·动态力学性能测试(DMA) | 第32-33页 |
| ·透射电镜(TEM) | 第33页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第33-34页 |
| 第三章 CTAB和短链离子液体对钠基蒙脱土的表面修饰 | 第34-50页 |
| ·理论模型与结构分析 | 第34-35页 |
| ·有机蒙脱土的结构分析与模拟 | 第34页 |
| ·有机蒙脱土XRD谱图峰形的分析和讨论 | 第34-35页 |
| ·CTAB在水中和甲苯中对蒙脱土的表面修饰 | 第35-39页 |
| ·CTAB在水中制备蒙脱土的热性能表征与结构分析 | 第35-37页 |
| ·CTAB在甲苯中处理蒙脱土的热性能表征与结构分析 | 第37-38页 |
| ·CTAB在两种极性不同溶剂中制备有机蒙脱土的比较 | 第38-39页 |
| ·离子液体作为有机化改性剂对蒙脱土表面修饰的优势 | 第39-40页 |
| ·短链离子液体对蒙脱土进行表面修饰 | 第40-42页 |
| ·短链离子液体的化学结构 | 第41-42页 |
| ·[AMIM]Cl在水中对蒙脱土的表面修饰 | 第42-44页 |
| ·[AMIM]Cl加入量对有机化效果的影响 | 第42-43页 |
| ·溶剂量对有机化效果的影响 | 第43页 |
| ·反应温度对有机化效果的影响 | 第43-44页 |
| ·反应时间对有机化效果的影响 | 第44页 |
| ·[AMIM]Cl在甲苯中对蒙脱土的表面修饰 | 第44-47页 |
| ·[AMIM]Cl加入量对有机化效果的影响 | 第44-45页 |
| ·溶剂量对有机化效果的影响 | 第45-46页 |
| ·反应温度对有机化效果的影响 | 第46页 |
| ·[AMIM]Cl制备有机蒙脱土的SEM和 TEM表征 | 第46-47页 |
| ·[AMIM]~+犷蒙脱土层间的存在状态的模拟 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第四章 长链离子液体对蒙脱土的表面修饰 | 第50-71页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在水中对蒙脱土.的表面修饰 | 第50-54页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在水中制备[C14mim]~+/MMT的TG分析 | 第50-51页 |
| ·[C_(14)mim]~+在有机蒙脱土层间的聚集形态结构 | 第51-52页 |
| ·[C_(14)mim」Cl在水中有机化反应时间对有机化效果的影响 | 第52页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在水中对蒙脱土表面修饰的结果分析 | 第52-54页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在甲苯中对蒙脱土的表面修饰 | 第54-58页 |
| ·甲苯中制备[C_(14)mim]~+/MMT复合物的热稳定性 | 第54页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在有机蒙脱土层间的聚集形态结构 | 第54-55页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在甲苯中有机蒙脱土的结果分析 | 第55-56页 |
| ·甲苯中制备[C_(14)mim]~+/MMT复合物的SEM和TEM表征 | 第56-58页 |
| ·[C_(14)mim]Cl在乙醇中对蒙脱土的表面修饰 | 第58-59页 |
| ·[C_(18)mimlCl在水中对蒙脱土的表面修饰 | 第59-62页 |
| ·[C_(18)mim]~+在蒙脱土层间的吸附([C_(18)mim]Cl in water) | 第59-61页 |
| ·[C_(18)mim]~+在蒙脱土层间的聚集形态 | 第61-62页 |
| ·[C_(18)mim]Cl在水中对蒙脱土表面修饰的结果分析 | 第62页 |
| ·[C_(18)mim]Cl在甲苯中对蒙脱土的表面修饰 | 第62-65页 |
| ·在甲苯中制备[C_(18)mim]~+/MMT复合物的热稳定性 | 第62-63页 |
| ·[C_(18)mim]~+在蒙脱土层间的聚集形态([C_(18)mim]Cl in toluene) | 第63页 |
| ·[C_(18)mimlCl在甲苯中对蒙脱土表面修饰的结果分析 | 第63-65页 |
| ·水和甲苯中咪唑基有机阳离子在蒙脱土层间吸附状态 | 第65-71页 |
| ·用高斯分峰法对有机蒙脱土的微商热重曲线进行分析 | 第65-66页 |
| ·水和甲苯中咪唑基有机阳离子在蒙脱土层间的吸附状态 | 第66-70页 |
| ·小结 | 第70-71页 |
| 第五章 离子液体修饰蒙脱土的方式对聚丙烯/蒙脱土复合材料的影响 | 第71-82页 |
| ·离子液体对一步法制备PP/ MMT复合材料性能的影响 | 第71-75页 |
| ·PMC的制备与表征 | 第71-72页 |
| ·PMC的微观结构及其相结构的稳定性 | 第72-73页 |
| ·PMC的热稳定性 | 第73页 |
| ·PMC的力学性能测试 | 第73-75页 |
| ·PMC的动态力学性能 | 第75页 |
| ·机械力化学作用下经离子液体修饰的 MMT | 第75-79页 |
| ·机械力化学法有机化MMT及PP/MMT复合材料的制备 | 第75-77页 |
| ·机械力化学法有机化MMT及PP/MMT复合材料的表征 | 第77-79页 |
| ·咪唑基阳离子的吸附状态对聚合物插层过程的影响 | 第79-82页 |
| ·PP/PP-g-MAH/MMT复合材料的制备 | 第79-80页 |
| ·[C_(18)mim]~+在蒙脱土层间的吸附状态对插层效果的影响 | 第80-82页 |
| 第六章 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第87页 |
