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中子单色器晶体的模型、性能和生产检测工艺的研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-8页
1 引言第8-26页
   ·非完美晶体用作中子单色器第8-14页
   ·非完美晶体的基本衍射理论第14-15页
   ·晶体嵌镶延展技术第15-18页
   ·蒙特卡罗方法在中子散射谱仪技术中的应用第18-20页
   ·论文的选题依据和意义第20-24页
 参考文献第24-26页
2 建立中子单色器晶体的中子衍射物理模型第26-44页
   ·非完美晶体的理论分析模型第26-33页
   ·非完美晶体中子衍射过程的物理模型第33-40页
   ·非完美晶体衍射物理模型的特性第40-41页
   ·结论第41-43页
 参考文献第43-44页
3 常用单色器晶体性能的模拟计算和评估第44-63页
   ·模拟计算的背景和目的第44-45页
   ·常用中子单色器晶体的基本材料性能第45-49页
   ·在MCSTAS中使用新的单色器组件分析中子单色器晶体的性能第49-62页
 参考文献第62-63页
4 锗单晶热压形变设备和工艺第63-77页
   ·锗垂直聚焦中子单色器第63-66页
   ·锗单晶真空热压炉第66-70页
   ·锗单晶薄片热压工艺第70-74页
   ·结论第74-77页
5 锗嵌镶晶体摇动曲线实验第77-106页
   ·实验方法和测量设备第77-84页
   ·摇动曲线测量和数据分析第84-101页
   ·分析和总结第101-105页
 参考文献第105-106页
6 结论第106-108页
攻读博士学位期间文章和报告目录第108-109页
致谢第109页

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