PECVD技术制备碳纳米管及其生长参数的研究
| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-22页 |
| ·碳纳米管的发现 | 第7-8页 |
| ·碳纳米管的结构和分类 | 第8-12页 |
| ·碳纳米管的结构 | 第8-11页 |
| ·碳纳米管的分类 | 第11-12页 |
| ·碳纳米管的物性和应用 | 第12-16页 |
| ·碳纳米管的电学性质及应用 | 第13页 |
| ·碳纳米管的力学性质及应用 | 第13-14页 |
| ·碳纳米管的光学性质及应用 | 第14页 |
| ·碳纳米管的潜在应用 | 第14-16页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第16-19页 |
| ·电弧法 | 第16-17页 |
| ·激光蒸发法 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管的生长机理 | 第19-21页 |
| ·电弧放电生长碳纳米管的生长机理 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法制备碳纳米管的生长机理 | 第20-21页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验和测试 | 第22-37页 |
| ·磁控溅射技术 | 第22-27页 |
| ·磁控溅射技术简介 | 第22页 |
| ·磁控溅射技术的实验原理 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射技术的实验设备 | 第23-24页 |
| ·催化剂基底的选择 | 第24-25页 |
| ·催化剂薄膜的制备工艺 | 第25-27页 |
| ·PECVD 技术 | 第27-34页 |
| ·PECVD技术简介 | 第27页 |
| ·PECVD技术的实验原理 | 第27-29页 |
| ·PECVD实验设备 | 第29-33页 |
| ·碳纳米管的制备工艺 | 第33-34页 |
| ·碳纳米管薄膜的表征 | 第34-37页 |
| ·碳纳米管薄膜的SEM表征 | 第34-35页 |
| ·碳纳米管薄膜的TEM表征 | 第35页 |
| ·碳纳米管薄膜的Raman光谱表征 | 第35-37页 |
| 第三章 碳纳米管生长参数的研究 | 第37-54页 |
| ·催化剂对碳纳米管生长的影响 | 第37-42页 |
| ·不同种类催化剂的SEM 分析 | 第37-41页 |
| ·不同种类催化剂的Raman 光谱分析 | 第41-42页 |
| ·催化剂刻蚀方式对碳纳米管生长的影响 | 第42-44页 |
| ·催化剂不同刻蚀方式的SEM 分析 | 第42-44页 |
| ·催化剂不同刻蚀方式的Raman 光谱分析 | 第44页 |
| ·沉积温度对碳纳米管生长的影响 | 第44-48页 |
| ·碳纳米管不同沉积温度的SEM 分析 | 第45-47页 |
| ·碳纳米管不同沉积温度的Raman 光谱分析 | 第47-48页 |
| ·气体流量比对碳纳米管生长的影响 | 第48-51页 |
| ·碳纳米管不同气体流量比的SEM 分析 | 第48-50页 |
| ·碳纳米管不同气体流量比的Raman 光谱分析 | 第50-51页 |
| ·沉积时间对碳纳米管生长的影响 | 第51-53页 |
| ·碳纳米管不同沉积时间的SEM分析 | 第51-53页 |
| ·碳纳米管不同沉积时间的Raman光谱分析 | 第53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 金属填充碳纳米管和分支型碳纳米管的研究 | 第54-62页 |
| ·实验 | 第54-55页 |
| ·金属填充碳纳米管 | 第55-59页 |
| ·金属填充纳米管简介 | 第55-56页 |
| ·实验结果分析 | 第56-59页 |
| ·分支型碳纳米管 | 第59-61页 |
| ·分支型碳纳米管简介 | 第59-60页 |
| ·实验结果分析 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 摘要 | 第70-72页 |
| Abstract | 第72-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
