选区生长定向碳纳米管阵列的实验研究
| 第一章 绪论 | 第1-12页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·真空微电子学和场发射显示器的发展现状 | 第8-9页 |
| ·碳纳米管的简介 | 第9-10页 |
| ·等离子体介绍 | 第10-11页 |
| ·本论文的研究工作 | 第11-12页 |
| 第二章 碳纳米管的制备方法及其应用 | 第12-23页 |
| ·碳纳米管的制备方法 | 第12-17页 |
| ·电弧法 | 第12-13页 |
| ·激光蒸发法 | 第13页 |
| ·催化裂解法 | 第13-14页 |
| ·等离子体沉积法 | 第14-17页 |
| ·碳纳米管的生长机理 | 第17-19页 |
| ·碳纳米管的应用 | 第19-23页 |
| ·碳纳米管的电学性能 | 第19-20页 |
| ·在材料科学中的应用 | 第20-21页 |
| ·在微电子学中的应用 | 第21页 |
| ·碳纳米管优异的力学性能 | 第21页 |
| ·碳纳米管储氢 | 第21-22页 |
| ·其它的应用 | 第22-23页 |
| 第三章 碳纳米管的选择性生长实验 | 第23-41页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积设备介绍 | 第23-25页 |
| ·图形化碳纳米管阵列的制备 | 第25-28页 |
| ·影响碳纳米管阵列质量的因素 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-36页 |
| ·氢气等离子体预处理基片对沉积碳纳米管的影响 | 第28-31页 |
| ·微波源功率及基片的位置对碳纳米管阵列制备的影响 | 第31-36页 |
| ·微波等离子体生长定向碳纳米管的生长机理的研究 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 MPCVD 法制备定向碳纳米管薄膜实验 | 第41-45页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验 | 第41-42页 |
| ·催化剂的制备 | 第41-42页 |
| ·定向碳纳米管薄膜制备 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 碳纳米管阵列的场发射性能研究 | 第45-53页 |
| ·Fowler-Nordheim 理论 | 第45-46页 |
| ·场发射测试系统介绍 | 第46-47页 |
| ·图形化碳纳米管阵列场发射特性测试 | 第47-50页 |
| ·定向碳纳米管薄膜场发射性能测试 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第六章 结论 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第59页 |
