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目标边缘散射算法及其应用研究

第一章 绪论第1-9页
 1.1 研究背景及意义第6页
 1.2 RCS计算的发展及现状第6-7页
 1.3 论文结构第7-9页
第二章 边缘绕射的等效电磁流法第9-22页
 2.1 RCS的基本概念第9-11页
 2.2 目标散射机理与边缘绕射算法第11-13页
 2.3 等效电磁流法第13-19页
 2.4 增量长度绕射系数第19-21页
 2.5 小结第21-22页
第三章 目标散射场的高频方法计算第22-40页
 3.1 目标建模方法第22-23页
 3.2 曲面的面元划分方法第23-25页
 3.3 面元遮挡处理第25-28页
 3.4 计算面劈型目标散射的基本方案第28-30页
 3.5 面劈型目标的多次散射第30-35页
 3.6 计算结果第35-39页
 3.7 小结第39-40页
第四章 有限导体锥对面天线辐射的影响第40-44页
 4.1 理论分析第40-42页
 4.2 锥体-面天线模型第42页
 4.3 计算结果及分析第42-43页
 4.4 小结第43-44页
第五章 目标散射的 MOM分析第44-54页
 5.1 电磁学中的矩量法第44-46页
 5.2 RWG基函数第46-48页
 5.3 导体目标散射场第48-53页
 5.4 小结第53-54页
第六章 全文总结第54-55页
附录第55-58页
参考文献第58-60页
作者发表或已投寄的论文第60页
作者参加的相关科研项目第60-61页
致谢第61-62页

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