| 第一章 绪论 | 第1-37页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·铁电薄膜研究的发展及分类 | 第12-15页 |
| ·铁电薄膜研究的发展 | 第12-13页 |
| ·铁电薄膜材料的分类 | 第13-15页 |
| ·铁电薄膜的制备技术 | 第15-18页 |
| ·铁电薄膜的性质 | 第18-24页 |
| ·自发极化 | 第18-19页 |
| ·极化反转与电滞回线 | 第19-20页 |
| ·电畴 | 第20-22页 |
| ·铁电相变与居里—外斯定律 | 第22页 |
| ·介电常数 | 第22-23页 |
| ·电阻率 | 第23页 |
| ·介质损耗 | 第23页 |
| ·热释电性 | 第23-24页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第24-33页 |
| ·铁电薄膜在热释电方面的应用 | 第27-30页 |
| ·铁电薄膜在存储器方面的应用 | 第30-33页 |
| ·铁电薄膜在微波器件方面的应用 | 第33页 |
| ·本论文研究的目的、意义及选题的依据 | 第33-34页 |
| 参考文献： | 第34-37页 |
| 第二章 PLCT铁电薄膜的结构及其基本性质 | 第37-54页 |
| ·钙钛矿结构 | 第37-40页 |
| ·PT及掺杂PT的相图 | 第40-44页 |
| ·PLCT系铁电薄膜的制备及性能 | 第44-50页 |
| ·钛酸铅镧钙系热释电薄膜材料的应用 | 第50-51页 |
| 参考文献： | 第51-54页 |
| 第三章.PLCT溶胶与基片制备 | 第54-64页 |
| ·Sol—Gel技术基本原理 | 第54-55页 |
| ·Sol-Gel技术的现状及应用 | 第54-55页 |
| ·PT／PLCT／PT异质膜的研究 | 第55页 |
| ·PLCT溶胶的制备及表征 | 第55-58页 |
| ·原料的选取 | 第55-56页 |
| ·溶胶—凝胶前驱液的制备工艺及主要技术参数 | 第56-58页 |
| ·基片的准备 | 第58-60页 |
| ·PLCT、PT／PLCT／PT铁电薄膜制备工艺流程 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第四章 改进Sol-Gel技术制备PLCT纳米微粉及厚膜工艺 | 第64-76页 |
| ·铁电厚膜的应用 | 第64-65页 |
| ·sol—gel技术制备PLCT系列微粉 | 第65-68页 |
| ·原料的选取 | 第65-66页 |
| ·微粉纳米微粉的制备工艺及主要技术参数 | 第66-68页 |
| ·PLCT纳米粉体的性能分析 | 第68-74页 |
| ·纳米粉体结构分析 | 第68页 |
| ·纳米粉体晶格参数与粒径分析 | 第68-72页 |
| ·Raman分析 | 第72-74页 |
| ·PLCT厚膜前驱液的配制及厚膜工艺 | 第74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第五章 sol-gel技术制备PLCT系铁电薄膜的性能分析 | 第76-110页 |
| ·PLCT系列铁电薄膜的结晶性能研究 | 第76-81页 |
| ·PLCT铁电薄膜的XPS分析 | 第81-86页 |
| ·PLCT铁电薄膜的形貌分析 | 第86-93页 |
| ·PLCT铁电薄膜的SEM分析 | 第86-88页 |
| ·PLCT铁电薄膜的AFM分析 | 第88-93页 |
| ·PLCT铁电薄膜的PFM分析 | 第93-99页 |
| ·PLCT系铁电薄膜的电学性能分析 | 第99-105页 |
| ·PLCT铁电薄膜的电学性能分析 | 第99-102页 |
| ·PT／PLCT／PT铁电异质膜的电学性能分析 | 第102-105页 |
| ·PLCT系铁电薄膜的热释电性能测试 | 第105-107页 |
| ·热释电系数测量原理 | 第105页 |
| ·PLCT铁电薄膜的热释电性能测试 | 第105-107页 |
| 参考文献 | 第107-110页 |
| 第六章 PLCT铁电厚膜的性能分析 | 第110-125页 |
| ·PLCTIO铁电厚膜的结晶性能研究 | 第110-114页 |
| ·PLCT铁电厚膜的表面形貌研究 | 第114-116页 |
| ·PLCT铁电厚膜的成分分析 | 第116-120页 |
| ·PLCT铁电厚膜的电学性能分析 | 第120-125页 |
| 第七章 射频磁控溅射法制备PLCT铁电薄膜及其性能分析 | 第125-154页 |
| ·PLCT陶瓷靶的制备 | 第125-129页 |
| ·射频磁控溅射制备方法 | 第129-130页 |
| ·PLCT铁电薄膜的制备 | 第130-132页 |
| ·PLCT铁电薄膜的性能分析 | 第132-142页 |
| ·PLCT铁电薄膜物化结构性能分析 | 第132-137页 |
| ·PLCT铁电薄膜的形貌分析 | 第137-142页 |
| ·PLCT铁电薄膜的PFM及SNDM分析 | 第142-149页 |
| ·SNDM基本原理 | 第143-144页 |
| ·SNDM的应用 | 第144-146页 |
| ·PLCT铁电薄膜的SNDM分析 | 第146-149页 |
| ·PLCT薄膜的电滞回线 | 第149页 |
| ·PLCT薄膜的电学性能 | 第149-152页 |
| 参考文献 | 第152-154页 |
| 第八章 主要结论、创新点及进一步工作的建议 | 第154-158页 |
| ·本论文的主要结果 | 第154-156页 |
| ·本论文主要创新点 | 第156-157页 |
| ·进一步开展PLCT系铁电薄膜研究的建议 | 第157-158页 |
| 附录 | 第158-163页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第158-161页 |
| 本人参加的科研项目 | 第161-162页 |
| 声明 | 第162-163页 |
| 致谢 | 第163页 |
