锆合金基体上直流磁控溅射铬膜组织与性能研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
1 绪论	第8-23页
·溅射镀膜原理	第8-14页
·溅射现象及机理	第9-11页
·辉光放电	第11-12页
·溅射镀膜的特点及分类	第12-14页
·磁控溅射	第14-17页
·磁控溅射原理及技术	第14-16页
·平面磁控溅射装置	第16-17页
·选题背景及依据	第17-21页
·铬膜的应用及研究	第17-20页
·选题依据及意义	第20-21页
·研究方案	第21-23页
2 研究方法	第23-28页
·样品的制备	第23-24页
·性能检测	第24-28页
·膜层显微硬度测定	第24-26页
·薄膜附着力测定	第26-27页
·膜层及界面形貌和成分分析	第27-28页
3 溅射Cr膜的形貌、结构	第28-38页
·形貌及结构分析	第28-32页
·膜厚及退火的影响	第32-37页
·本章小结	第37-38页
4 薄膜的性能	第38-51页
·薄膜的显微硬度	第38-43页
·基体粗糙度及清洁度的影响	第40-42页
·退火的影响	第42页
·厚度及镀膜次序的影响	第42-43页
·薄膜的界面及附着性	第43-50页
·基体粗糙度及离子轰击的作用	第46-47页
·退火的作用	第47-48页
·膜厚及中间层的影响	第48-50页
·本章小结	第50-51页
5 结论	第51-52页
参考文献	第52-56页
发表论文	第56-57页
声明	第57-58页
致谢	第58页