第一章 前言 | 第1-14页 |
1.1 课题背景 | 第8-9页 |
1.2 电畴结构现有的研究方法及存在的问题 | 第9-12页 |
1.2.1 电畴结构现有观察技术 | 第9-11页 |
1.2.2 传统电畴观察技术存在的问题 | 第11页 |
1.2.3 SFM电畴观察方法研究进展和有待解决的问题 | 第11-12页 |
1.3 本论文的工作 | 第12-14页 |
第二章 铁电畴及其检测原理 | 第14-30页 |
2.1 铁电畴的形成机理 | 第14-20页 |
2.1.1 铁电体的性质 | 第14-16页 |
2.1.2 铁电畴的形成 | 第16-18页 |
2.1.3 电畴的极化反转 | 第18-20页 |
2.2 铁电畴的扫描力显微镜检测技术 | 第20-30页 |
2.2.1 扫描力显微镜的原理 | 第21-24页 |
2.2.2 压电响应原子力显微镜的电畴成像 | 第24-27页 |
2.2.3 扫描非线性介电显微镜铁电畴成像 | 第27-28页 |
2.2.4 开尔文力显微镜电畴成像 | 第28-30页 |
第三章 实验仪器 | 第30-34页 |
3.1 扫描与反馈控制电路系统 | 第30-31页 |
3.2 锁相放大电路 | 第31-32页 |
3.3 图像扫描控制与处理软件 | 第32-34页 |
第四章 结果与讨论 | 第34-60页 |
4.1 电压对电畴成像的影响 | 第34-41页 |
4.1.1 有效电压影响 | 第34-38页 |
4.1.2 交流电压实验 | 第38-41页 |
4.2 导电探针与样品表面之间接触力的影响 | 第41-48页 |
4.2.1 微悬臂的弹性系数 | 第42-44页 |
4.2.2 力参数(ForceRef.)实验 | 第44-48页 |
4.3 输入增益的调整 | 第48-49页 |
4.4 PFM和SNDM、KFM模式对比 | 第49-51页 |
4.5 样品表面粗糙度的影响 | 第51-52页 |
4.6 气氛对电畴成像的影响 | 第52-53页 |
4.7 静电力对PFM电畴成像的影响 | 第53-57页 |
4.7.1 静电力干扰机理分析 | 第53-55页 |
4.7.2 静电力干扰的大小和排除方法 | 第55-57页 |
4.8 电畴的极化反转 | 第57-60页 |
第五章 结论 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
致谢 | 第65-66页 |