| 前言 | 第1-11页 |
| 1．1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1．2 问题的提出 | 第10-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-41页 |
| 1．1 多孔硅的制备 | 第11-18页 |
| 1．2 多孔硅发光特性研究现状 | 第18-28页 |
| 1．2．1 多孔硅与无机半导体的复合 | 第19-22页 |
| 1．2．2 多孔硅/有机复合体系 | 第22-27页 |
| 1．2．3 金属元素在多孔硅中的沉积与掺杂 | 第27-28页 |
| 1．3 后处理对多孔硅发光特性的影响 | 第28-32页 |
| 1．4 研究展望和存在的问题． | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-41页 |
| 第二章 实验设备与测试仪器 | 第41-50页 |
| 2．1 实验设备 | 第41-45页 |
| 2．1．1 恒电位仪 | 第41-42页 |
| 2．1．2 多孔硅反应槽 | 第42-43页 |
| 2．1．3 RTP设备 | 第43-44页 |
| 2．1．4 旋涂设备 | 第44-45页 |
| 2．2 测试设备 | 第45-50页 |
| 2．2．1 光致发光谱测试 | 第45-46页 |
| 2．2．2 扫描电子显微镜（SEM） | 第46-47页 |
| 2．2．3 X射线衍射（XRD） | 第47页 |
| 2．2．4 傅立叶变换红外光谱（FTIR） | 第47-48页 |
| 2．2．5 紫外—可见吸收光谱 | 第48-49页 |
| 2．2．6 I-V测试 | 第49-50页 |
| 第三章 多孔硅的制备 | 第50-59页 |
| 3．1 引言 | 第50-53页 |
| 3．2 实验 | 第53-56页 |
| 3．2．1 实验中所用的主要药品 | 第53-54页 |
| 3．2．2 化学腐蚀法制备多孔 | 第54页 |
| 3．2．3 阳极氧化法 | 第54-55页 |
| 3．2．4 测试 | 第55-56页 |
| 3．3 实验结果 | 第56-58页 |
| 3．3．1 化学腐蚀法制备多孔硅 | 第56-57页 |
| 3．3．2 阳极氧化法制备多孔硅 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第四章 多孔硅与聚甲基丙烯酸甲酯复合光致发光 | 第59-66页 |
| 4．1 引言 | 第59页 |
| 4．2 实验方法 | 第59-61页 |
| 4．2．1 多孔硅的制备 | 第59-60页 |
| 4．2．2 PMMA的制备 | 第60页 |
| 4．2．3 PS/PMMA的复合 | 第60-61页 |
| 4．3 测试 | 第61页 |
| 4．4 实验结果分析 | 第61-64页 |
| 4．4．1 多孔硅形貌与PMMA的表征 | 第61-62页 |
| 4．4．2 PL谱以及PLE谱的测试 | 第62-63页 |
| 4．4．3 发光特性测试结果讨论 | 第63-64页 |
| 4．4．4 老化试验 | 第64页 |
| 4．5 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第五章 多孔硅/多孔氧化铝与有机发光材料复合光电特性研究 | 第66-83页 |
| 5．1 引言 | 第66-67页 |
| 5．2 多孔硅/多孔氧化铝与PVK复合的光电特性 | 第67-75页 |
| 5．2．1 实验方法 | 第67-69页 |
| 5．2．2 测试 | 第69页 |
| 5．2．3 实验结果分析 | 第69-75页 |
| 5．3 多孔硅/多孔氧化铝与DBO-PPV复合体系的发光特性 | 第75-79页 |
| 5．3．1 实验 | 第75-76页 |
| 5．3．2 测试 | 第76页 |
| 5．3．3 实验结果讨论与分析 | 第76-79页 |
| 5．4 结论 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-83页 |
| 第六章 快速热处理（RTP）对多孔硅发光特性的影响 | 第83-91页 |
| 6．1 引言 | 第83-84页 |
| 6．2 实验过程 | 第84页 |
| 6．3 测试 | 第84页 |
| 6．4 实验结果分析和讨论 | 第84-89页 |
| 6．5 结论 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-91页 |
| 第七章 结论 | 第91-93页 |
| 发表论文 | 第93-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
