| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·扩散定律及本质 | 第12-14页 |
| ·Fick第一定律 | 第12页 |
| ·Fick第二定律 | 第12-13页 |
| ·扩散的本质 | 第13-14页 |
| ·扩散微观机制及理论 | 第14-19页 |
| ·原子跃迁频率与扩散系数 | 第14-15页 |
| ·间隙扩散机制 | 第15-17页 |
| ·换位扩散机制 | 第17页 |
| ·空位扩散机制 | 第17-18页 |
| ·位错扩散机制 | 第18页 |
| ·晶界扩散机制 | 第18-19页 |
| ·表面扩散机制 | 第19页 |
| ·柯肯达尔(Kirkendall)效应 | 第19-21页 |
| ·柯肯达尔(Kirkendall)效应的实验过程 | 第19-20页 |
| ·柯肯达尔(Kirkendall)效应的含义 | 第20-21页 |
| ·柯肯达尔(Kirkendall)效应的理论意义 | 第21页 |
| ·柯肯达尔(Kirkendall)效应的实际应用 | 第21页 |
| ·扩散的热力学分析 | 第21-23页 |
| ·驱动扩散原子定向迁移的力 | 第21-22页 |
| ·扩散系数的热力学解释 | 第22-23页 |
| ·影响扩散的因素 | 第23-26页 |
| ·温度 | 第23页 |
| ·固溶体类型 | 第23页 |
| ·晶体结构 | 第23-24页 |
| ·晶体缺陷 | 第24页 |
| ·浓度 | 第24页 |
| ·合金元素 | 第24页 |
| ·其他外场因素 | 第24-26页 |
| ·外场作用下的扩散研究 | 第26-32页 |
| ·电场作用下原子的扩散及相变研究概况 | 第26-27页 |
| ·强磁场作用下的扩散 | 第27-32页 |
| ·本文研究的目的和内容 | 第32-34页 |
| 第二章 Cu-Ni扩散偶的制备及其预处理 | 第34-41页 |
| ·实验研究对象 | 第34-36页 |
| ·电镀 | 第34-35页 |
| ·电镀实验设备及器材 | 第35-36页 |
| ·电镀实验方法 | 第36-39页 |
| ·试样 | 第36页 |
| ·试剂 | 第36页 |
| ·镀液成分及作用、电镀工艺参数 | 第36-37页 |
| ·电镀工艺流程 | 第37-39页 |
| ·Cu-Ni扩散偶的预处理 | 第39-41页 |
| 第三章 强磁场下Cu-Ni扩散实验 | 第41-47页 |
| ·实验设备 | 第41-42页 |
| ·实验方法 | 第42-45页 |
| ·实验准备 | 第42页 |
| ·实验工艺参数的选择 | 第42-43页 |
| ·实验过程 | 第43-45页 |
| ·实验结果观察及分析 | 第45-47页 |
| ·金相组织观察 | 第45-46页 |
| ·钼丝标记移动距离的测量 | 第46页 |
| ·利用EPMA-1610电子探针进行微区元素成分分析 | 第46-47页 |
| 第四章 强磁场对Cu-Ni扩散偶柯肯达尔效应的影响 | 第47-66页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·无磁场不同时间条件下钼丝距离移动分析 | 第47-49页 |
| ·均恒强磁场作用下Cu-Ni扩散偶的柯肯达尔效应 | 第49-60页 |
| ·不同磁场强度和方向对Cu-Ni扩散偶中钼丝移动距离影响 | 第49-51页 |
| ·在DPB方向上磁场强度对Cu-Ni扩散层厚度的影响 | 第51-52页 |
| ·磁场强度对界面附近Cu(Ni)浓度分布的影响 | 第52-53页 |
| ·在DPB方向上不同磁场强度作用下元素原子扩散系数的数值计算 | 第53-56页 |
| ·分析与讨论 | 第56-60页 |
| ·梯度磁场作用下Cu-Ni扩散偶的柯肯达尔效应 | 第60-66页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·实验过程 | 第61页 |
| ·实验结果 | 第61-62页 |
| ·分析与讨论 | 第62-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 个人简介 | 第74页 |
