| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-19页 |
| ·衍射光栅的研究现状及应用 | 第9-12页 |
| ·衍射光栅的发展 | 第9-10页 |
| ·衍射光栅的基本性质及分类 | 第10-11页 |
| ·衍射光栅的应用 | 第11-12页 |
| ·衍射光栅制备技术 | 第12-17页 |
| ·传统的衍射光栅制备技术 | 第12-14页 |
| ·刻蚀技术制备光栅 | 第14-16页 |
| ·光刻法制备光栅 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| ·本研究的目的及意义 | 第17页 |
| ·本研究的内容 | 第17-18页 |
| ·本研究的创新点 | 第18-19页 |
| 2 实验方案及仪器 | 第19-23页 |
| ·实验方案的设计 | 第19-20页 |
| ·实验所需药品和设备 | 第20-23页 |
| ·药品和试剂 | 第20页 |
| ·实验设备和仪器 | 第20-23页 |
| 3 感光薄膜的制备 | 第23-27页 |
| ·ZrO_2/BzAcH凝胶薄膜的制备及感光性测试 | 第23页 |
| ·PMMA/TiO_2 OIHM薄膜的制备及感光性能测试 | 第23-26页 |
| ·PMMA/TiO_2 OIHM薄膜制备 | 第24-25页 |
| ·PMMA/TiO_2 OIHM感光性分析 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 4 双光束激光干涉法制备光栅 | 第27-39页 |
| ·双光束激光干涉法简介 | 第27-28页 |
| ·光栅周期和面积的计算 | 第28-30页 |
| ·Φ30ZrO_2光栅的制备及性能测试 | 第30-34页 |
| ·光栅的制备 | 第30-32页 |
| ·衍射效率的测试 | 第32-34页 |
| ·增大曝光场面积的方法 | 第34-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 5 大槽深衍射光栅的制备 | 第39-49页 |
| ·UV-掩模光刻法制备PMMA/TiO_2 OIHM厚膜光栅 | 第39-40页 |
| ·光栅的化学刻蚀 | 第40-48页 |
| ·光栅化学刻蚀基本原理 | 第40-42页 |
| ·化学刻蚀光栅工艺的确定 | 第42-45页 |
| ·d=250μm光栅的腐蚀 | 第45-46页 |
| ·d=833nm光栅的腐蚀 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 6 结论 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 作者在硕士期间发表的论文及申请的专利 | 第59页 |
