| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·氧化锌基本性质 | 第13-16页 |
| ·氧化锌的晶体结构 | 第13-14页 |
| ·ZnO 的电学性质 | 第14-16页 |
| ·ZnO 的光学性质 | 第16页 |
| ·氧化锌材料的研究进展及应用 | 第16-17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 ZNO 薄膜制备与实验 | 第19-27页 |
| ·薄膜生长过程及制备方法 | 第19-22页 |
| ·电子束蒸发 | 第19-20页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第20-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第21-22页 |
| ·溶胶－凝胶法（sol-gel） | 第22页 |
| ·薄膜氧化法 | 第22页 |
| ·PLD 法制备ZNO 薄膜 | 第22-27页 |
| ·脉冲激光沉积工艺简介 | 第22-24页 |
| ·实验脉冲激光沉积系统 | 第24-25页 |
| ·薄膜制备过程 | 第25-27页 |
| 第三章 ZNO 薄膜的生长与表征 | 第27-37页 |
| ·薄膜生长的影响因素 | 第27-28页 |
| ·ZNO 薄膜的XRD 研究 | 第28-31页 |
| ·XRD 实验原理 | 第28-29页 |
| ·样品的XRD 测试分析 | 第29-31页 |
| ·样品表面形貌的表征方法 | 第31-37页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第31-34页 |
| ·衬底温度对样品表面形貌的影响的AFM 研究 | 第34-35页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）的原理 | 第35-37页 |
| 第四章 ZNO 薄膜光学特性的研究 | 第37-46页 |
| ·椭圆偏振光谱仪 | 第37-42页 |
| ·椭圆偏振光谱仪简介 | 第37页 |
| ·椭圆偏振光谱仪测量的基本原理 | 第37-42页 |
| ·椭偏参数的拟合方法 | 第42页 |
| ·CAUCHY 模型拟合椭偏参数 | 第42-44页 |
| ·不同衬底温度制备ZNO 薄膜的光学常数的研究 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 准一维非晶ZNO 纳米棒的研究 | 第46-57页 |
| ·一维ZNO 纳米材料的生长机理及制备方法 | 第46-48页 |
| ·热蒸发(thermalev aporation) | 第46-47页 |
| ·液相制备方法 | 第47页 |
| ·模板法 | 第47-48页 |
| ·准一维非晶ZNO 纳米棒的制备 | 第48-53页 |
| ·ZnO/ZnS 薄膜的制备及表征 | 第48-50页 |
| ·非晶ZnO 纳米棒的生长 | 第50-53页 |
| ·准一维非晶ZNO 纳米棒光致发光的研究 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-66页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第66-67页 |