| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| ·问题的提出及研究的意义 | 第10-11页 |
| ·问题的提出 | 第10页 |
| ·研究的意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-21页 |
| ·一维纳米材料的可控组装研究现状 | 第11-16页 |
| ·SWNT 的筛选 | 第16-19页 |
| ·SWNT 在压阻式力学传感器方面应用的研究 | 第19-21页 |
| ·本文研究的目的和研究内容 | 第21-24页 |
| ·本文研究的目的 | 第21-22页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第22-24页 |
| 2 基于 SWNT 压阻式力学传感器的理论基础 | 第24-42页 |
| ·压阻效应及压阻式力学传感器的应用 | 第24-25页 |
| ·压阻式力学传感器的研究及发展趋势 | 第25-26页 |
| ·CNT 的结构和力电特性 | 第26-31页 |
| ·CNT 的结构特征与分类 | 第26-29页 |
| ·SWNT 的力电特性 | 第29-31页 |
| ·SWNT 压阻式敏感机理和理论分析 | 第31-39页 |
| ·SWNT 作为压阻材料的理论基础 | 第31-36页 |
| ·基于应变的悬空SWNT 阵列选择性电烧断的理论分析 | 第36-39页 |
| ·材料的压阻特性 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-42页 |
| 3 SWNT 微纳结构的工艺研究 | 第42-64页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·SWNT 的制备 | 第42-46页 |
| ·SWNT 的生长机理 | 第42页 |
| ·SWNT 的可控生长 | 第42-46页 |
| ·SWNT 的提纯 | 第46-47页 |
| ·SWNT 分散液的配制 | 第47-49页 |
| ·接触金属的选择 | 第49-51页 |
| ·集成化工艺 | 第51-59页 |
| ·生长-后加工流程 | 第51-54页 |
| ·微加工-后生长流程 | 第54-59页 |
| ·测试结果与分析 | 第59-62页 |
| ·静态I-U 测试 | 第59-60页 |
| ·静态拉力测试 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 4 介电电泳组装 SWNT 有序结构 | 第64-74页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·介电电泳的理论基础 | 第64-67页 |
| ·介电电泳电场强度分布仿真 | 第67-71页 |
| ·介电电泳组装的影响因素分析 | 第71-73页 |
| ·电压 | 第71页 |
| ·电极宽度 | 第71-72页 |
| ·电泳时间 | 第72-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 5 悬空 SWNT 阵列应变选择方法的实验研究 | 第74-88页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·悬空SWNT 阵列的工艺流程 | 第74-82页 |
| ·利用激光加工硅片上的贯通缝 | 第75-76页 |
| ·利用反应离子刻蚀加工贯通缝 | 第76-78页 |
| ·悬空SWNT 阵列力学测试实验研究 | 第78-82页 |
| ·实验结果分析 | 第82-84页 |
| ·悬空SWNT 阵列的选择 | 第84-87页 |
| ·选择性电烧断的宏观模型分析 | 第84-85页 |
| ·测试结果与分析 | 第85-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 6 柔性传感器的制作与测试结果分析 | 第88-100页 |
| ·引言 | 第88页 |
| ·工艺制作流程 | 第88-89页 |
| ·交流介电电泳可控组装SWNT | 第89-99页 |
| ·柔性基底弯曲式电泳过程 | 第89-90页 |
| ·柔性基底弯曲式电泳结果 | 第90-92页 |
| ·区域选择性电沉积金属 | 第92-95页 |
| ·力学测试结果 | 第95-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 7 结论及展望 | 第100-104页 |
| ·主要结论 | 第100-101页 |
| ·论文的主要工作 | 第100页 |
| ·论文的主要结论 | 第100-101页 |
| ·论文的主要贡献和创新点 | 第101页 |
| ·后续研究工作的展望 | 第101-104页 |
| 致谢 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-114页 |
| 附录 | 第114页 |