| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·VOA的研究意义 | 第9-10页 |
| ·几种不同衰减机制的VOA | 第10-15页 |
| ·平板波导型VOA | 第11-12页 |
| ·液晶VOA | 第12-13页 |
| ·MEMS型VOA | 第13-15页 |
| ·国内外研究现状及发展动态分析 | 第15-17页 |
| ·论文的主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 基于矢量和的微波光子移相器 | 第18-26页 |
| ·微波光子移相器简介 | 第18页 |
| ·矢量和微波光子移相器的原理 | 第18-22页 |
| ·分立器件组成的矢量和微波光子移相器实验系统和结果分析 | 第22-24页 |
| ·集成矢量和微波光子移相器中可调光衰减器的提出 | 第24-26页 |
| 第3章 SOI热光VOA原理及仿真设计 | 第26-39页 |
| ·SOI热光可调光衰减器基本原理 | 第26-27页 |
| ·脊形波导有效折射率法和SOI材料选择 | 第27-31页 |
| ·BPM简介 | 第31-32页 |
| ·Opti BPM二维仿真 | 第32-36页 |
| ·Opti BPM三维仿真 | 第36-37页 |
| ·器件的结构设计 | 第37-39页 |
| 第4章 器件的热学仿真设计 | 第39-49页 |
| ·薄膜电极材料的选取 | 第39-41页 |
| ·热光VOA的ANSYS热学仿真设计 | 第41-49页 |
| ·ANSYS简介 | 第41页 |
| ·ANSYS热学分析 | 第41-49页 |
| 第5章 器件工艺研究及测试 | 第49-61页 |
| ·器件的工艺制作 | 第49-50页 |
| ·光刻工艺技术研究 | 第50-56页 |
| ·光刻机曝光系统 | 第50-53页 |
| ·图形反转光刻胶 | 第53-55页 |
| ·光刻工艺实验研究 | 第55-56页 |
| ·器件的形貌观测 | 第56-58页 |
| ·器件性能的测试与分析 | 第58-61页 |
| 第6章 总结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |