首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--半导体二极管论文

GaMnN基共振隧穿二极管自旋器件的设计和模拟

摘要第1-7页
Abstract第7-10页
第一章 绪论第10-18页
   ·稀磁半导体第10-12页
     ·稀磁半导体概述第10页
     ·稀磁半导体的研究历史第10-11页
     ·稀磁半导体的应用及其前景第11-12页
   ·GaN基宽带隙稀磁半导体(Ga,Mn)N第12-18页
     ·GaN的基本特性第12-14页
     ·GaMnN的研究近况第14-18页
第二章 磁共振隧穿二极管第18-25页
   ·磁RTD的研究意义第18页
   ·磁共振隧穿结构第18-25页
     ·双势垒TMR结构第19-20页
     ·磁RTD结构第20-25页
第三章 InGaN/GaMnN双势垒铁磁共振隧穿二极管的特性研究第25-35页
   ·器件结构和计算方法第25-27页
   ·In浓度对GaN/GaMnN铁磁RTD铁磁性能的影响第27-29页
   ·温度对InGaN/GaMnN铁磁RTD铁磁性能的影响第29-32页
   ·自旋分裂能对InGaN/GaMnN铁磁RTD铁磁性能的影响第32-35页
第四章 InGaN/GaMnN三势垒铁磁共振隧穿二极管的特性研究第35-42页
   ·器件结构和计算方法第35-36页
   ·平行结构下三势垒铁磁RTD铁磁性能的研究第36-38页
   ·两种反平行结构下三势垒铁磁RTD磁电流的研究第38-42页
     ·两种反平行结构及磁电流的计算方法第38-39页
     ·不同磁化结构对三势垒铁磁RTD磁电流的影响第39-42页
第五章 AlGaN/GaMnN双势垒铁磁共振隧穿二极管自旋极化度的调制第42-52页
   ·引言第42页
   ·Mn掺杂在发射极时极化电荷对铁磁RTD自旋极化度的调制第42-48页
     ·器件模型第42-43页
     ·极化电荷对铁磁eRTD的I-V曲线和自旋极化度的影响第43-47页
     ·极化方向对铁磁RTD自旋极化度的调制第47-48页
   ·Mn掺杂在器件时中极化电荷对铁磁RTD自旋极化度的调制第48-52页
     ·器件模型第48-49页
     ·极化电荷对铁磁dRTD的I-V曲线和自旋极化度的影响第49-52页
第六章 结论第52-54页
附录 发表论文和科研情况第54-55页
参考文献第55-59页
致谢第59页

论文共59页,点击 下载论文
上一篇:从无线电报到移动通信的技术社会学研究
下一篇:对BGA封装技术中锡球焊接可靠性的研究