| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-15页 |
| ·纳米多层膜的研究背景和应用前景 | 第10-12页 |
| ·薄膜的制备技术及应用 | 第12-13页 |
| ·本论文研究的背景与意义 | 第13-14页 |
| ·本论文研究的内容 | 第14-15页 |
| 第二章 实验原理与测试方法 | 第15-22页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第15-16页 |
| ·离子束辅助沉积的原理 | 第15页 |
| ·离子束辅助沉积实验装置 | 第15-16页 |
| ·薄膜的结构测试 | 第16页 |
| ·薄膜的力学性能测试方法 | 第16-22页 |
| ·薄膜的厚度、残余应力测试 | 第16-17页 |
| ·薄膜的硬度测试 | 第17-20页 |
| ·薄膜与基底的结合力测试 | 第20-21页 |
| ·薄膜的摩擦性能测试 | 第21-22页 |
| 第三章 ZrB_2/AlN纳米多层膜的结构与力学性能 | 第22-41页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜的制备 | 第22页 |
| ·实验参数对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构及性能的影响 | 第22-36页 |
| ·调制周期对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构与性能的影响 | 第22-28页 |
| ·调制比例对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构与性能的影响 | 第28-32页 |
| ·离子轰击能量对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构与性能的影响 | 第32-36页 |
| ·部分薄膜的多层结构分析 | 第36-38页 |
| ·薄膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第36-38页 |
| ·薄膜的扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第38页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜的致硬机理分析 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 ZrB_2/W和ZrB_2/WN_x纳米多层膜的结构与力学性能 | 第41-69页 |
| ·ZrB_2/W和ZrB_2/WN_x纳米多层膜的制备 | 第41页 |
| ·实验参数对ZrB_2/W和ZrB_2/WN_x纳米多层膜结构及性能的影响 | 第41-60页 |
| ·调制周期对ZrB_2/W纳米多层膜结构与性能的影响 | 第41-45页 |
| ·调制比例对ZrB_2/W纳米多层膜结构与性能的影响 | 第45-49页 |
| ·调制周期对ZrB_2/WN_x纳米多层膜结构与性能的影响 | 第49-52页 |
| ·离子轰击能量对ZrB_2/WN_x纳米多层膜结构与性能的影响 | 第52-55页 |
| ·调制周期和基底温度对ZrB_2/W纳米多层膜结构与性能的影响 | 第55-57页 |
| ·调制周期和基底温度对ZrB_2/WN_x纳米多层膜结构与性能的影响 | 第57-60页 |
| ·ZrB_2/W和ZrB_2/WN_x纳米多层膜的结构分析 | 第60-64页 |
| ·多层膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第60-63页 |
| ·多层膜的扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第63-64页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕测试结果分析 | 第64-66页 |
| ·ZrB_2/W和ZrB_2/WN_x纳米多层膜的致硬机理分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第五章 总结 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 发表文章目录 | 第77-78页 |
| 硕士在读期间获奖情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
