反应磁控溅射法制备WO3薄膜及其电致变色性能研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-20页 |
·前言 | 第9页 |
·电致变色材料 | 第9-11页 |
·电致变色材料的特性 | 第9-10页 |
·电致变色材料的分类 | 第10-11页 |
·电致变色机理 | 第11-15页 |
·色心模型 | 第12页 |
·电化学反应模型 | 第12页 |
·离子/电子的双注入模型 | 第12-14页 |
·极化模型 | 第14-15页 |
·Bechinger模型 | 第15页 |
·电致变色器件 | 第15-17页 |
·电致变色层 | 第16页 |
·电解质层 | 第16-17页 |
·对电极层 | 第17页 |
·透明导电层 | 第17页 |
·WO_3简介及国内外研究现状 | 第17-20页 |
第二章 实验设备及检测仪器 | 第20-23页 |
·实验设备 | 第20-21页 |
·衬底清洗设备 | 第20页 |
·磁控溅射镀膜机及其它附属设备 | 第20-21页 |
·主要试剂及材料 | 第21页 |
·衬底 | 第21页 |
·检测仪器 | 第21-23页 |
·X射线衍射仪 | 第21页 |
·原子力显微镜 | 第21-22页 |
·紫外-可见光光度计 | 第22页 |
·电化学测试工作站 | 第22-23页 |
第三章 WO_3薄膜的制备和研究方法 | 第23-31页 |
·研究方法和流程 | 第23-24页 |
·反应溅射镀膜技术简介 | 第24-26页 |
·反应磁控溅射原理概述 | 第24-25页 |
·磁控溅射设备 | 第25-26页 |
·基片的清洗 | 第26-27页 |
·WO_3薄膜样品的制备 | 第27-29页 |
·实验步骤 | 第27-28页 |
·反应溅射实验参数 | 第28-29页 |
·薄膜退火处理 | 第29页 |
·样品透射率测试 | 第29-31页 |
·电解质的准备 | 第29页 |
·薄膜的致色反应 | 第29-31页 |
第四章 WO_3薄膜的表征和制备工艺研究 | 第31-37页 |
·WO_3薄膜的XRD分析 | 第31-32页 |
·WO_3薄膜的AFM分析 | 第32-33页 |
·成膜速率影响因素 | 第33-37页 |
·工作压强对成膜速率的影响 | 第33-35页 |
·氩氧比对成膜速率的影响 | 第35-37页 |
第五章 WO_3薄膜的电致变色性能研究 | 第37-51页 |
·致色电压对电致变色性能的影响 | 第37-40页 |
·退火温度对电致变色性能的影响 | 第40-47页 |
·退火温度对薄膜透射率的影响 | 第40-42页 |
·退火温度对Li~+扩散性能的影响 | 第42-45页 |
·结论分析 | 第45-47页 |
·薄膜厚度对电致变色性能的影响 | 第47-51页 |
第六章 WO_3薄膜的表面修饰和器件组装 | 第51-57页 |
·TiO_2表面修饰对薄膜的影响 | 第51-54页 |
·WO_3薄膜表面修饰 | 第51-53页 |
·ITO表面修饰 | 第53-54页 |
·电致变色器件 | 第54-57页 |
·电致变色器件的组装 | 第54-55页 |
·电致变色器件的透射谱 | 第55-56页 |
·电致变色器件的循环伏安特性 | 第56-57页 |
总结与展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |