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反应磁控溅射法制备WO3薄膜及其电致变色性能研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第一章 绪论第9-20页
   ·前言第9页
   ·电致变色材料第9-11页
     ·电致变色材料的特性第9-10页
     ·电致变色材料的分类第10-11页
   ·电致变色机理第11-15页
     ·色心模型第12页
     ·电化学反应模型第12页
     ·离子/电子的双注入模型第12-14页
     ·极化模型第14-15页
     ·Bechinger模型第15页
   ·电致变色器件第15-17页
     ·电致变色层第16页
     ·电解质层第16-17页
     ·对电极层第17页
     ·透明导电层第17页
   ·WO_3简介及国内外研究现状第17-20页
第二章 实验设备及检测仪器第20-23页
   ·实验设备第20-21页
     ·衬底清洗设备第20页
     ·磁控溅射镀膜机及其它附属设备第20-21页
     ·主要试剂及材料第21页
     ·衬底第21页
   ·检测仪器第21-23页
     ·X射线衍射仪第21页
     ·原子力显微镜第21-22页
     ·紫外-可见光光度计第22页
     ·电化学测试工作站第22-23页
第三章 WO_3薄膜的制备和研究方法第23-31页
   ·研究方法和流程第23-24页
   ·反应溅射镀膜技术简介第24-26页
     ·反应磁控溅射原理概述第24-25页
     ·磁控溅射设备第25-26页
   ·基片的清洗第26-27页
   ·WO_3薄膜样品的制备第27-29页
     ·实验步骤第27-28页
     ·反应溅射实验参数第28-29页
     ·薄膜退火处理第29页
   ·样品透射率测试第29-31页
     ·电解质的准备第29页
     ·薄膜的致色反应第29-31页
第四章 WO_3薄膜的表征和制备工艺研究第31-37页
   ·WO_3薄膜的XRD分析第31-32页
   ·WO_3薄膜的AFM分析第32-33页
   ·成膜速率影响因素第33-37页
     ·工作压强对成膜速率的影响第33-35页
     ·氩氧比对成膜速率的影响第35-37页
第五章 WO_3薄膜的电致变色性能研究第37-51页
   ·致色电压对电致变色性能的影响第37-40页
   ·退火温度对电致变色性能的影响第40-47页
     ·退火温度对薄膜透射率的影响第40-42页
     ·退火温度对Li~+扩散性能的影响第42-45页
     ·结论分析第45-47页
   ·薄膜厚度对电致变色性能的影响第47-51页
第六章 WO_3薄膜的表面修饰和器件组装第51-57页
   ·TiO_2表面修饰对薄膜的影响第51-54页
     ·WO_3薄膜表面修饰第51-53页
     ·ITO表面修饰第53-54页
   ·电致变色器件第54-57页
     ·电致变色器件的组装第54-55页
     ·电致变色器件的透射谱第55-56页
     ·电致变色器件的循环伏安特性第56-57页
总结与展望第57-59页
参考文献第59-63页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第63-64页
致谢第64页

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