| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-17页 |
| ·高介电常数材料的研究背景 | 第9-10页 |
| ·高介电常数材料的特性 | 第10-13页 |
| ·钛酸锶钡(Ba_(1-x)Sr_xTiO_3)的结构及特性 | 第11-12页 |
| ·高κ栅介质材料的性能要求 | 第12-13页 |
| ·高介电常数材料研究概况 | 第13-16页 |
| ·钛酸锶钡的研究进展 | 第13-14页 |
| ·高κ栅介质的研究进展 | 第14-16页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第16-17页 |
| 第2章 采用Ti_3Al 合金靶制备Ti-Al-O 薄膜及其性能 | 第17-27页 |
| ·Pt/Ti-Al-O/Si 异质结的制备 | 第17-19页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射(magnetron sputtering)技术 | 第18页 |
| ·实验过程 | 第18-19页 |
| ·高介电常数薄膜的表征方法 | 第19-22页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第19-20页 |
| ·电容-电压(C-V)测量 | 第20-22页 |
| ·电流-电压(I-V)测量 | 第22页 |
| ·激光能量密度对Ti-Al-O 薄膜电学性能的影响 | 第22-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 第3章 采用TiO_2-Al_2O_3复合靶制备Ti-Al-O 薄膜及其性能 | 第27-36页 |
| ·Ti-Al-O 薄膜的热稳定性和介电特性 | 第27-30页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-30页 |
| ·退火气氛对Ti-Al-O 薄膜电学性能的影响 | 第30-34页 |
| ·实验过程 | 第30-31页 |
| ·实验结果与讨论 | 第31-34页 |
| ·厚度对Ti-Al-O 薄膜电学性能的影响 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第4章 脉冲激光沉积法制备Ba_xSr_(1-x)TiO_3薄膜及其性能 | 第36-42页 |
| ·Pt/BST/Pt 电容器的制备 | 第36-37页 |
| ·快速退火处理对Pt/BST/Pt 电容器结构和性能的影响 | 第37-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| 结语 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第49页 |
