| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 等离子体电解氧化技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 等离子体电解氧化技术概述 | 第11页 |
| 1.2.2 等离子体电解氧化技术原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 等离子体电解氧化的基本过程 | 第12-13页 |
| 1.2.4 等离子体电解氧化技术的发展历程及研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 镁合金等离子体电解氧化膜层的性能 | 第14页 |
| 1.4 封孔后处理 | 第14-15页 |
| 1.5 本文的研究目标及研究内容 | 第15-17页 |
| 1.5.1 研究目标 | 第15页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第15-17页 |
| 2 实验设备及研究方法 | 第17-23页 |
| 2.1 等离子体电解氧化实验装置 | 第17-19页 |
| 2.2 实验材料 | 第19-21页 |
| 2.2.1 镁合金基材 | 第19-20页 |
| 2.2.2 实验使用化学试剂 | 第20页 |
| 2.2.3 电解液配备 | 第20-21页 |
| 2.3 等离子体电解氧化膜层的组织及形貌测试 | 第21页 |
| 2.3.1 膜层物相检测 | 第21页 |
| 2.3.2 膜层形貌检测 | 第21页 |
| 2.4 等离子体电解氧化膜层的性能测试 | 第21-23页 |
| 2.4.1 膜层的耐蚀性能 | 第21-22页 |
| 2.4.2 膜层的耐热性能 | 第22-23页 |
| 3 AZ31镁合金等离子体电解氧化工艺参数优化实验 | 第23-33页 |
| 3.1 正交试验设计 | 第23-24页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第24-32页 |
| 3.2.1 动电位极化曲线测试 | 第24-25页 |
| 3.2.2 高温氧化实验测试 | 第25-26页 |
| 3.2.3 试验结果分析 | 第26-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 电解液添加辅助添加剂制备复合膜层的组织与性能 | 第33-45页 |
| 4.1 膜层的制备 | 第33-34页 |
| 4.2 等离子体电解氧化膜层的组成和结构 | 第34-38页 |
| 4.2.1 膜层的微观形貌 | 第34-36页 |
| 4.2.2 膜层的物相组成 | 第36-38页 |
| 4.3 等离子体电解氧化膜层的耐蚀性能 | 第38-41页 |
| 4.3.1 动电位极化曲线分析 | 第38-39页 |
| 4.3.2 5.0 wt.%NaCl溶液中的浸泡性能 | 第39-41页 |
| 4.4 膜层的抗高温氧化和抗热震性能 | 第41-43页 |
| 4.4.1 膜层的抗高温氧化性能 | 第41-42页 |
| 4.4.2 膜层的耐热冲击性能 | 第42-43页 |
| 4.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 5 等离子体电解氧化陶瓷膜层封孔后组织与性能 | 第45-52页 |
| 5.1 封孔处理 | 第45页 |
| 5.2 封孔对涂层表面形貌的影响 | 第45-48页 |
| 5.3 封孔对涂层耐蚀性能的影响 | 第48-49页 |
| 5.4 封孔对涂层抗高温氧化性能的影响 | 第49-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 6 结论与展望 | 第52-55页 |
| 6.1 结论 | 第52-53页 |
| 6.2 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第60页 |
