CdTe薄膜的磁控溅射法制备及太阳电池的应用
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-18页 |
| 1.1 前言 | 第7-10页 |
| 1.2 薄膜太阳电池 | 第10-15页 |
| 1.2.1 太阳电池原理 | 第10-11页 |
| 1.2.2 电池性能参数 | 第11-13页 |
| 1.2.3 碲化镉薄膜太阳电池 | 第13-15页 |
| 1.3 溅射法制备碲化镉薄膜的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.4 本文的研究内容及组织框架 | 第16-18页 |
| 1.4.1 研究内容 | 第16-17页 |
| 1.4.2 论文组织框架 | 第17-18页 |
| 2 吸收层CdTe薄膜的制备及表征 | 第18-33页 |
| 2.1 薄膜的制备工艺 | 第18-20页 |
| 2.2 磁控溅射法 | 第20-27页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第20-22页 |
| 2.2.2 磁控溅射原理 | 第22-24页 |
| 2.2.3 薄膜的制备 | 第24-27页 |
| 2.3 薄膜的表征 | 第27-33页 |
| 2.3.1 台阶仪 | 第28页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪 | 第28-30页 |
| 2.3.3 紫外可见光光度计 | 第30-31页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜 | 第31-32页 |
| 2.3.5 I-V测试系统 | 第32-33页 |
| 3 溅射法制备CdTe薄膜的结果分析 | 第33-49页 |
| 3.1 衬底温度对CdTe薄膜性质的影响 | 第33-37页 |
| 3.1.1 衬底温度对沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.2 衬底温度对结构特性的影响 | 第34-35页 |
| 3.1.3 衬底温度对光学特性的影响 | 第35-36页 |
| 3.1.4 衬底温度对表面形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.2 溅射时间对CdTe薄膜性质的影响 | 第37-41页 |
| 3.2.1 溅射时间对沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 溅射时间对结构特性的影响 | 第38页 |
| 3.2.3 溅射时间对光学特性的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.4 溅射时间对表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 溅射功率对CdTe薄膜性质的影响 | 第41-45页 |
| 3.3.1 溅射功率对沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.2 溅射功率对结构特性的影响 | 第42页 |
| 3.3.3 溅射功率对光学特性的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4 溅射功率对表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| 3.4 氩气压强对CdTe薄膜性质的影响 | 第45-49页 |
| 3.4.1 氩气压强对沉积速率的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.2 氩气压强对结构特性的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.3 氩气压强对光学特性的影响 | 第47-48页 |
| 3.4.4 氩气压强对表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| 4 CdTe薄膜电池的应用 | 第49-54页 |
| 4.1 基本理论 | 第49-50页 |
| 4.1.1 基本性质 | 第49页 |
| 4.1.2 电池结构 | 第49-50页 |
| 4.2 CdTe薄膜的关键技术 | 第50-51页 |
| 4.2.1 退火处理 | 第50-51页 |
| 4.2.2 化学刻蚀 | 第51页 |
| 4.3 电池的效率分析 | 第51-54页 |
| 4.3.1 背电极为Au的碲化镉电池 | 第51-52页 |
| 4.3.2 背电极为Cu/Au的碲化镉电池 | 第52-54页 |
| 5 总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 总结 | 第54-55页 |
| 5.2 展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 硕士期间的研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
