| 致谢 | 第1-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-14页 |
| 第二章 文献综述:ZnO系材料及其器件的研究现状 | 第14-38页 |
| ·引言 | 第14-15页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第15-20页 |
| ·晶体结构 | 第15-17页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第17页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第17-18页 |
| ·ZnO的其他性质 | 第18-20页 |
| ·ZnO系发光器件 | 第20-30页 |
| ·异质结器件 | 第20-27页 |
| ·金属-绝缘体-半导体二极管 | 第27-30页 |
| ·CdZnO合金材料与器件 | 第30-37页 |
| ·CdZnO合金中的变形势和能带排布 | 第30-31页 |
| ·CdZnO合金材料的研究近况 | 第31-35页 |
| ·CdZnO合金相关发光器件的研究近况 | 第35-37页 |
| ·总结 | 第37-38页 |
| 第三章 材料制备与测试设备 | 第38-42页 |
| ·材料制备设备 | 第38页 |
| ·直流反应磁控溅射与电子束蒸发设备 | 第38页 |
| ·旋涂设备 | 第38页 |
| ·热处理设备 | 第38页 |
| ·材料与器件测试设备 | 第38-42页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第38-39页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第39-40页 |
| ·光学性能测试仪器 | 第40页 |
| ·电学性能测试仪器 | 第40-42页 |
| 第四章 硅基Zn_2SiO_4:ZnO薄膜器件的制备及其电致发光 | 第42-52页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·硅基Zn_2SiO_4:ZnO薄膜发光器件的制备 | 第43-44页 |
| ·Zn_2SiO_4:ZnO薄膜的表征 | 第44-47页 |
| ·Zn_2SiO_4:ZnO薄膜的晶体结构 | 第44-45页 |
| ·Zn_2SiO_4:ZnO薄膜的形貌 | 第45-46页 |
| ·Zn_2SiO_4:ZnO薄膜的光致发光 | 第46-47页 |
| ·硅基Zn_2SiO_4:ZnO薄膜器件的电流-电压特性和电致发光性能 | 第47-48页 |
| ·硅基Zn_2SiO_4:ZnO薄膜器件的电流-电压特性 | 第47页 |
| ·硅基Zn_2SiO_4:ZnO薄膜器件的电致发光性能 | 第47-48页 |
| ·载流子输运特性及电致发光的机理 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 Cd_xZn_(1-x)O薄膜的制备及其热稳定性研究 | 第52-68页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·Cd_xZn_(1-x)O薄膜的制备及热处理工艺 | 第53页 |
| ·Cd_xZn_(1-x)O薄膜的热稳定性 | 第53-66页 |
| ·Cd_(0.15)Zn_(0.85)O薄膜的热稳定性 | 第53-57页 |
| ·Cd_(0.26)Zn_(0.74)O薄膜的热稳定性 | 第57-62页 |
| ·Cd_(0.42)Zn_(0.58)O薄膜的热稳定性 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第六章 快速热处理对Cd_xZn_(1-x)O薄膜光致发光性能的影响 | 第68-76页 |
| ·引言 | 第68-69页 |
| ·Cd_xZn_(1-x)O薄膜的快速热处理工艺 | 第69页 |
| ·RTA对Cd_xZn_(1-x)O薄膜光致发光和晶体结构的影响 | 第69-75页 |
| ·Cd_(0.10)Zn_(0.90)O薄膜 | 第69-72页 |
| ·Cd_(0.52)Zn_(0.48)O薄膜 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第七章 总结 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 硕士期间发表的论文与申请的专利 | 第86页 |
