| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 引言 | 第11-31页 |
| 1.1 研究背景及选题意义 | 第11-12页 |
| 1.2 EMCD技术 | 第12-25页 |
| 1.2.1 EMCD技术的基本原理 | 第12-14页 |
| 1.2.2 EMCD技术的发展及应用 | 第14-24页 |
| 1.2.3 EMCD技术与XMCD技术的比较 | 第24-25页 |
| 1.3 EMCD衍射几何中光阑位置的几点说明 | 第25-26页 |
| 1.4 透射电镜中的其他磁性表征技术 | 第26-28页 |
| 1.5 本论文的选题和研究内容 | 第28-31页 |
| 1.5.1 EMCD技术中存在的问题和需要发展的方向 | 第28-29页 |
| 1.5.2 本论文的研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 EMCD技术定量磁参数测量的一般方法 | 第31-65页 |
| 2.1 本章引论 | 第31页 |
| 2.2 占位分辨EMCD技术的局限性 | 第31-32页 |
| 2.3 定量EMCD技术磁参数测量的一般框架 | 第32-33页 |
| 2.4 衍射动力学效应与EMCD技术 | 第33-35页 |
| 2.4.1 衍射动力学效应 | 第33-34页 |
| 2.4.2 衍射动力学效应与EMCD技术的理论框架 | 第34-35页 |
| 2.5 三束衍射几何的不对称性 | 第35-42页 |
| 2.5.1 不对称性的来源 | 第36-37页 |
| 2.5.2 三束条件下不对称性的分布 | 第37-40页 |
| 2.5.3 不对称性对定量磁参数测量的影响 | 第40-42页 |
| 2.6 定量磁参数测量的一般方法 | 第42-53页 |
| 2.6.1 Y_3Fe_5O_(12)晶体结构的分析 | 第42-43页 |
| 2.6.2 寻找衍射条件的一般方法 | 第43-46页 |
| 2.6.3 实验衍射几何的优化和光阑位置的选择 | 第46-47页 |
| 2.6.4 EMCD信号的实验采集 | 第47-48页 |
| 2.6.5 本征磁信号的提取 | 第48-49页 |
| 2.6.6 占位分辨EELS信号的提取 | 第49-50页 |
| 2.6.7 定量磁参数的计算及误差分析 | 第50-53页 |
| 2.7 正带轴衍射几何下的EMCD技术 | 第53-64页 |
| 2.7.1 正带轴衍射几何的问题和优势 | 第53-54页 |
| 2.7.2 材料体系的选择 | 第54-55页 |
| 2.7.3 理论模拟 | 第55-58页 |
| 2.7.4 实验结果与讨论 | 第58-60页 |
| 2.7.5 正带轴衍射几何下的占位分辨技术 | 第60-63页 |
| 2.7.6 正带轴衍射几何下几点需要说明的问题 | 第63-64页 |
| 2.8 本章小结 | 第64-65页 |
| 第3章 EMCD技术本征磁信号的测量 | 第65-78页 |
| 3.1 本章引论 | 第65页 |
| 3.2 EMCD技术面内磁信号探测的基本原理 | 第65-70页 |
| 3.2.1 基本原理 | 第65-66页 |
| 3.2.2 理论模拟 | 第66-68页 |
| 3.2.3 衍射几何与信号的分离 | 第68-70页 |
| 3.3 实验设计与结果 | 第70-73页 |
| 3.3.1 样品选择和实验条件 | 第70-71页 |
| 3.3.2 实验结果与讨论 | 第71-73页 |
| 3.4 面内EMCD技术中几点需要说明的问题 | 第73-76页 |
| 3.4.1 面内EMCD技术的衍射几何 | 第74-75页 |
| 3.4.2 Lorentz模式与EMCD技术结合中的问题 | 第75-76页 |
| 3.4.3 面内EMCD技术与其他实验设置的结合 | 第76页 |
| 3.5 本章小结 | 第76-78页 |
| 第4章 协同表征下高空间分辨EMCD技术的应用 | 第78-88页 |
| 4.1 本章引论 | 第78页 |
| 4.2 Y_3Fe_5O_(12)-Pt界面自旋流的研究 | 第78-80页 |
| 4.2.1 自旋流 | 第78-79页 |
| 4.2.2 Y_3Fe_5O_(12)-Pt界面自旋流输运性质的研究 | 第79-80页 |
| 4.3 Y_3Fe_5O_(12)-Pt界面性质的研究 | 第80-86页 |
| 4.3.1 界面无序结构对自旋流输运的影响 | 第80-81页 |
| 4.3.2 界面化学成分和电子结构 | 第81-83页 |
| 4.3.3 Y_3Fe_5O_(12)-Pt的界面磁性质 | 第83-86页 |
| 4.4 本章小结 | 第86-88页 |
| 第5章 透射电镜中的其他磁性表征技术 | 第88-108页 |
| 5.1 本章引论 | 第88页 |
| 5.2 磁斯格明子 | 第88-93页 |
| 5.2.1 skyrmion及其基本性质 | 第88-92页 |
| 5.2.2 限域几何中的skyrmion | 第92-93页 |
| 5.3 洛伦兹成像技术及应用 | 第93-97页 |
| 5.3.1 基本原理 | 第93-95页 |
| 5.3.2 TIE方法 | 第95-96页 |
| 5.3.3 纳米条带中skyrmion的Lorentz表征 | 第96-97页 |
| 5.4 电子全息技术 | 第97-104页 |
| 5.4.1 基本原理 | 第97-99页 |
| 5.4.2 相位分离方法 | 第99-100页 |
| 5.4.3 skyrmion纳米条带中边缘态的研究 | 第100-104页 |
| 5.5 透射电镜中几种磁性表征方法的比较 | 第104-106页 |
| 5.6 本章小结 | 第106-108页 |
| 第6章 结论与展望 | 第108-110页 |
| 6.1 结论 | 第108-109页 |
| 6.2 展望 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
| 附录 AEMCD中关于非弹性电子散射的理论计算 | 第125-130页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第130-131页 |
