| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 微弧氧化技术简介 | 第9-12页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术概述 | 第9-10页 |
| 1.2.2 微弧氧化技术发展简史 | 第10页 |
| 1.2.3 微弧氧化机理研究 | 第10-12页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第12页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 课题研究内容 | 第14-16页 |
| 2 铝合金微弧氧化膜层厚度分布研究 | 第16-30页 |
| 2.1 有限元分析基础 | 第16-19页 |
| 2.1.1 有限元法概述 | 第16-18页 |
| 2.1.2 有限元软件COMSOLMultiphysics简介 | 第18-19页 |
| 2.2 微弧氧化有限元模型 | 第19-24页 |
| 2.2.1 假设条件 | 第19-21页 |
| 2.2.2 数学模型 | 第21页 |
| 2.2.3 物理模型 | 第21-23页 |
| 2.2.4 材料属性与边界条件设置 | 第23-24页 |
| 2.3 求解与分析 | 第24-28页 |
| 2.3.1 氧化时间对膜层厚度及分布的影响 | 第24-26页 |
| 2.3.2 电流密度分布研究 | 第26-27页 |
| 2.3.3 电场对膜层厚度及分布的影响 | 第27-28页 |
| 2.4 小结 | 第28-30页 |
| 3 铝合金微弧氧化过程温度场分布研究 | 第30-42页 |
| 3.1 微弧氧化温度场有限元模型 | 第30-36页 |
| 3.1.1 假设条件 | 第30页 |
| 3.1.2 数学模型 | 第30-32页 |
| 3.1.3 物理模型 | 第32-34页 |
| 3.1.4 材料属性与边界条件设置 | 第34-36页 |
| 3.2 求解与分析 | 第36-41页 |
| 3.2.1 温度分布 | 第36-39页 |
| 3.2.2 温度梯度分布 | 第39-40页 |
| 3.2.3 温度场分布情况对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第40-41页 |
| 3.3 小结 | 第41-42页 |
| 4 铝合金微弧氧化过程热应力场分布研究 | 第42-56页 |
| 4.1 微弧氧化热应力场有限元模型 | 第42-47页 |
| 4.1.1 假设条件 | 第42-43页 |
| 4.1.2 数学模型 | 第43-45页 |
| 4.1.3 物理模型 | 第45-46页 |
| 4.1.4 材料属性与边界条件设置 | 第46-47页 |
| 4.2 求解与分析 | 第47-55页 |
| 4.2.1 热应力分布 | 第47-51页 |
| 4.2.2 热应变分布 | 第51-54页 |
| 4.2.3 热应力场分布情况对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第54-55页 |
| 4.3 小结 | 第55-56页 |
| 5 实验研究 | 第56-66页 |
| 5.1 实验材料及装置 | 第56-58页 |
| 5.2 实验过程与分析 | 第58-65页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第58-60页 |
| 5.2.2 实验结果与分析 | 第60-65页 |
| 5.3 小结 | 第65-66页 |
| 6 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66-67页 |
| 6.2 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录 读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第73-74页 |
