| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 磁性材料的高频应用背景 | 第11-13页 |
| 1.2 高频磁性理论研究发展 | 第13-18页 |
| 1.2.1 Kittel方程 | 第14-16页 |
| 1.2.2 Snoek极限 | 第16-17页 |
| 1.2.3 Acher极限 | 第17-18页 |
| 1.2.4 双各向异性模型 | 第18页 |
| 1.3 磁各向异性理论 | 第18-25页 |
| 1.3.1 磁晶各向异性 | 第19-20页 |
| 1.3.2 交换各向异性 | 第20-21页 |
| 1.3.3 应力各向异性 | 第21-22页 |
| 1.3.4 感生各向异性 | 第22-23页 |
| 1.3.5 形状各向异性 | 第23-25页 |
| 1.4 图形化磁性薄膜的研究现状 | 第25-27页 |
| 1.5 本论文研究的意义和主要内容 | 第27-29页 |
| 2 样品的制备与测试 | 第29-37页 |
| 2.1 微米级磁条的制备 | 第29-32页 |
| 2.1.1 光刻工艺的原理和工艺流程 | 第29-31页 |
| 2.1.2 磁控溅射原理及方法 | 第31-32页 |
| 2.2 蓝宝石基底纳米级图形化的制备原理 | 第32-33页 |
| 2.3 图形化薄膜样品的表征手段 | 第33-37页 |
| 2.3.1 台阶仪 | 第33-34页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第34页 |
| 2.3.3 扫描探针显微镜(AFM、MFM) | 第34页 |
| 2.3.4 振动样品磁强计(VSM) | 第34-35页 |
| 2.3.5 矢量网络分析仪(VNA) | 第35-37页 |
| 3 线条宽度对微米级磁条的性能影响 | 第37-47页 |
| 3.1 连续的Ta/NiFe/Ta薄膜的结构和性能 | 第37-39页 |
| 3.1.1 连续薄膜样品的制备 | 第37页 |
| 3.1.2 EDS对薄膜的成分分析 | 第37-38页 |
| 3.1.3 连续薄膜的静态磁性能 | 第38-39页 |
| 3.1.4 连续薄膜的高频磁性能 | 第39页 |
| 3.2 不同线宽的微米级线条阵列NiFe薄膜样品的性能 | 第39-46页 |
| 3.2.1 不同线宽微米级磁条的制备和工艺流程 | 第39-40页 |
| 3.2.2 SEM、AFM以及台阶仪对样品形貌表征 | 第40-42页 |
| 3.2.3 线条宽度对样品的静态磁性影响 | 第42-44页 |
| 3.2.4 线条宽度对样品的高频磁性影响 | 第44-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 混排组合磁条的Acher极限影响研究 | 第47-60页 |
| 4.1 混排组合磁条的制备 | 第47-48页 |
| 4.2 混排组合磁条的表面形貌表征 | 第48-50页 |
| 4.3 混排组合磁条的静态磁性研究 | 第50-53页 |
| 4.4 混排组合磁条的磁畴结构研究 | 第53-55页 |
| 4.5 混排组合磁条对样品Acher极限的影响 | 第55-58页 |
| 4.6 本章小结 | 第58-60页 |
| 5 纳米级条纹阵列的制备及磁性能研究 | 第60-68页 |
| 5.1 蓝宝石基底上制备纳米级NiFe条纹工艺流程 | 第60-61页 |
| 5.2 不同退火温度对三角波条纹波长的影响 | 第61-63页 |
| 5.3 不同波长薄膜样品的静态磁性研究 | 第63-65页 |
| 5.4 不同波长样品的高频磁性能研究 | 第65-66页 |
| 5.5 本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第76页 |
