| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-34页 |
| 1.1 脱硫工艺 | 第8页 |
| 1.2 湿法脱硫 | 第8-20页 |
| 1.2.1 低温甲醇洗法（Rectisol） | 第8-10页 |
| 1.2.2 醇胺法脱硫技术 | 第10-15页 |
| 1.2.2.1 醇胺法脱硫的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2.2 MDEA 脱硫、脱碳工艺 | 第12-13页 |
| 1.2.2.3 以MDEA 法脱硫为基础的多种功能性脱硫技术 | 第13页 |
| 1.2.2.4 aMDEA 工艺 | 第13-14页 |
| 1.2.2.5 Gas／Spec 工艺 | 第14页 |
| 1.2.2.6 Amine Guard 工艺 | 第14-15页 |
| 1.2.2.7 Uearsol 工艺 | 第15页 |
| 1.2.2.8 Flexsorb 工艺 | 第15页 |
| 1.2.2.9 DDS 法 | 第15页 |
| 1.2.3 环丁砜法（Sulfinol） | 第15-17页 |
| 1.2.4 NHD 法（Selexol） | 第17-18页 |
| 1.2.5 蒽醌二磺酸钠法(ADA 法) | 第18-19页 |
| 1.2.6 栲胶法(TV 法) | 第19页 |
| 1.2.7 PDS 法 | 第19页 |
| 1.2.8 TEA 络合铁法及改良的络合铁法 | 第19-20页 |
| 1.3 干法脱硫 | 第20-28页 |
| 1.3.1 氧化锌脱硫剂 | 第20-25页 |
| 1.3.1.1 脱硫反应的机理 | 第21-22页 |
| 1.3.1.2 脱硫反应的吸收模型 | 第22-24页 |
| 1.3.1.3 氧化锌脱硫剂的气氛效应 | 第24-25页 |
| 1.3.2 铁系脱硫剂 | 第25-26页 |
| 1.3.3 铝系脱硫剂（有机硫） | 第26页 |
| 1.3.4 活性炭脱硫剂 | 第26-27页 |
| 1.3.5 分子筛系脱硫剂 | 第27-28页 |
| 1.4 脱碳工艺 | 第28-29页 |
| 1.5 碳酸丙烯酯法 | 第29-31页 |
| 1.5.1 基本原理 | 第29-30页 |
| 1.5.2 工艺流程 | 第30页 |
| 1.5.3 常见问题及处理方法 | 第30-31页 |
| 1.6 热碳酸钾法 | 第31-32页 |
| 1.6.1 基本原理 | 第31-32页 |
| 1.6.2 工艺流程 | 第32页 |
| 1.7 典型脱碳工艺的比较和选择 | 第32-34页 |
| 第二章 MDEA 脱碳工艺工况分析 | 第34-62页 |
| 2.1 MDEA 工艺简述 | 第34页 |
| 2.2 MDEA 脱碳原理 | 第34-36页 |
| 2.3 设备一览表 | 第36-37页 |
| 2.4 工艺参数一览表 | 第37-38页 |
| 2.5 生产数据分析及讨论 | 第38-57页 |
| 2.5.1 变换气流程 | 第38-43页 |
| 2.5.1.1 变换气温度 | 第39-40页 |
| 2.5.1.2 变换气压力 | 第40-41页 |
| 2.5.1.3 净化气中C0_2 含量 | 第41-43页 |
| 2.5.2 MDEA 溶液流程 | 第43-52页 |
| 2.5.2.1 MDEA 溶液温度 | 第44-49页 |
| 2.5.2.2 MDEA 半贫液、贫液压力 | 第49-50页 |
| 2.5.2.3 MDEA 溶液流量 | 第50-51页 |
| 2.5.2.4 MDEA 溶液在塔中液位 | 第51-52页 |
| 2.5.3 再生气、闪蒸汽流程 | 第52-57页 |
| 2.5.3.1 再生气、闪蒸汽温度 | 第52-54页 |
| 2.5.3.2 再生气，闪蒸汽压力 | 第54-56页 |
| 2.5.3.3 再生气分离器液位 | 第56-57页 |
| 2.6 设备腐蚀原因及分析 | 第57-61页 |
| 2.6.1 设施腐蚀的理论分析 | 第57-58页 |
| 2.6.2 MDEA 脱碳腐蚀分析及处理方法 | 第58-61页 |
| 2.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 第三章 华昌脱碳工艺的ASPEN 模拟 | 第62-69页 |
| 3.1 物性方法 | 第62-63页 |
| 3.2 华昌脱碳流程的模拟 | 第63-65页 |
| 3.3 工艺参数的分析与讨论 | 第65-68页 |
| 3.3.1 吸收压力 | 第65-66页 |
| 3.3.2 MDEA 浓度 | 第66页 |
| 3.3.3 贫液量 | 第66-68页 |
| 3.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73页 |