| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 课题的来源与意义 | 第12-14页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第12页 |
| 1.1.2 课题研究的背景 | 第12-14页 |
| 1.1.3 课题研究的意义 | 第14页 |
| 1.2 KDP晶体的特性 | 第14-17页 |
| 1.2.1 KDP晶体的物化特性 | 第14-15页 |
| 1.2.2 KDP晶体的光学特性 | 第15-16页 |
| 1.2.3 KDP晶体的机械特性 | 第16-17页 |
| 1.3 国内外发展现状 | 第17-21页 |
| 1.3.1 KDP晶体清洗工艺研究现状 | 第17-18页 |
| 1.3.2 离子束清洗工艺研究现状 | 第18-19页 |
| 1.3.3 离子束加工热效应研究现状 | 第19-21页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 KDP晶体离子束加工温度场建模分析 | 第22-32页 |
| 2.1 热源模型 | 第22-29页 |
| 2.1.1 溅射理论 | 第22-23页 |
| 2.1.2 能量沉积模拟 | 第23-26页 |
| 2.1.3 热源功率计算 | 第26-29页 |
| 2.2 温度场模型 | 第29-31页 |
| 2.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 数值模拟与工艺参数优化设计 | 第32-43页 |
| 3.1 离子束加工数值模拟 | 第32-34页 |
| 3.1.1 实体模型建立 | 第32-33页 |
| 3.1.2 网格划分 | 第33页 |
| 3.1.3 移动热源处理 | 第33-34页 |
| 3.2 仿真对比与速度优化 | 第34-37页 |
| 3.2.1 仿真对比 | 第34-36页 |
| 3.2.2 速度优化 | 第36-37页 |
| 3.3 离子束加工工艺参数优化 | 第37-42页 |
| 3.3.1 研究方法 | 第37-38页 |
| 3.3.2 结果与讨论 | 第38-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 仿真与加工参数匹配 | 第43-55页 |
| 4.1 束流密度测量原理 | 第43-45页 |
| 4.2 束电压与束电流的选取 | 第45-46页 |
| 4.3 束电压、束电流、靶距对束流密度、束流分布参数的影响 | 第46-49页 |
| 4.3.1 束电压对峰值束流密度、束流分布参数的影响 | 第47页 |
| 4.3.2 束电流对峰值束流密度、束流分布参数的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.3 靶距对峰值束流密度、束流分布参数的影响 | 第48-49页 |
| 4.4 加工参数选取 | 第49-50页 |
| 4.5 工艺验证 | 第50-53页 |
| 4.5.1 实验方法 | 第50-51页 |
| 4.5.2 仿真结果与分析 | 第51-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 工艺实验与分析 | 第55-65页 |
| 5.1 不同清洗工艺对比 | 第55-58页 |
| 5.2 KDP晶体离子束清洗 | 第58-64页 |
| 5.2.1 去除效率验证 | 第58-59页 |
| 5.2.2 离子束清洗对表面粗糙度的影响 | 第59-61页 |
| 5.2.3 离子束清洗后表面元素检测 | 第61-64页 |
| 5.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 全文总结 | 第65-66页 |
| 6.2 研究展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第73页 |
